付振

中国科学院半导体研究所

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付振来自中国科学院半导体研究所,专利315件。擅长半导体制造、电性能及故障测、矿隧专用、步进矿顶支架。最擅长半导体制造。排名在TOP1。一种芯片设计阶段可靠性评估方法和装置是存续时间最长的专利。与北京智芯微电子科技有限公司合作165次,与陈燕宁合作141次。

步进矿顶支架 干燥附件 干燥气控 图像增强复原 现场处理 电性能及故障测 H01L35 半导体制造 H01L29 电磁存储器 矿隧专用 时间记录 H01L27 半导体器件细节 电磁器件 磁阻存储器 半导体势垒 场效应晶体管 电池充供电

  1. 01
    H01L29top 1%
    领域专利数量71/ 47886
    专家排名149/ 20304
  2. 02
    矿隧专用top 1%
    领域专利数量21/ 35221
    专家排名256/ 37699
  3. 03
    半导体制造top 1%
    领域专利数量79/ 207690
    专家排名412/ 89090
  4. 04
    半导体器件技术top 1%
    领域专利数量93/ 460333
    专家排名1015/ 179580
  5. 05
    电磁测量top 1%
    领域专利数量39/ 508635
    专家排名3095/ 351272

显示 1-5 条,共 308 条

与 北京智芯微电子科技有限公司 的合作详情

共 165 项合作记录

一种芯片设计阶段可靠性评估方法和装置

20150902

CN201510557112.1

一种芯片可靠性设计的方法及装置

20171108

CN201711089861.1

RFID标签在高低温条件下的性能测试系统和测试方法

20180528

CN201810522093.2

仿真MOSFET温度电学特性的子电路模型的建立方法

20180528

CN201810523411.7

基于手动绑线机的高密度封装芯片失效定位方法

20190705

CN201910602633.2

具有原子级台阶结构的单晶钛酸锶衬底基片及其制备方法

20190717

CN201910644631.X

具有稳定接触的微探针

20190417

CN201920516048.6

低温防雾化露化装置

20190611

CN201920870166.7

带隙基准源测量装置及方法

20200925

CN202011024238.X

制备ZrNiSn块体热电材料的方法和电池

20201130

CN202011379151.4

高压非对称结构LDMOS器件及其制备方法

20201210

CN202011433850.2

一种湿度传感器

20201208

CN202011443736.8

MRAM存储阵列温度自检测方法、存储控制方法和系统

20201209

CN202011452068.5

聚酰胺类材料稳定性快速评价方法

20201210

CN202011455404.1

纵向结构柔性热电器件及其制作方法

20201210

CN202011455669.1

用于经时击穿测试的探针卡及经时击穿测试方法

20201210

CN202011455731.7

一种温度传感器

20201208

CN202011461453.6

降低埋氧层泄漏电流的SOI器件结构及其制作方法

20201215

CN202011471670.3

磁性存储介质的数据处理方法、系统及装置

20201217

CN202011497059.8

一种用于测试MCU静电放电防护性能的电路及方法

20201225

CN202011566708.5

一种检测PMOS器件NBTI退化的电路

20201229

CN202011598468.7

一种用于静电测试的监测装置及静电测试系统

20210316

CN202110283041.6

栅氧化层时变击穿测试方法、可靠性测试方法及测试结构

20210909

CN202111057876.6

用于分析芯片老化的模拟仿真方法、装置及系统

20210916

CN202111088795.2

数字隔离器及芯片

20211011

CN202111182262.0

用于制备高压LDMOS器件的方法及器件

20211027

CN202111257655.3

半导体器件、集成电路产品以及制造方法

20211111

CN202111330860.8

电平移位器和数字隔离器

20211111

CN202111331236.X

一种芯片可靠性评估方法、装置及芯片

20211116

CN202111354981.6

隔离电容及隔离电容的制备方法

20211129

CN202111436654.5

三轴隧穿磁电阻传感器及其制备方法、使用方法

20211201

CN202111453598.6

一种电容器、芯片及电容器的制备方法

20211206

CN202111475179.2

半导体器件及其制作方法

20211207

CN202111482363.X

随机磁隧道结器件及应用方法

20211207

CN202111482824.3

翻转概率可控的随机磁隧道结器件及应用方法

20211207

CN202111485264.7

横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及其制作方法

20211221

CN202111571321.3

振荡电路和振荡器

20211223

CN202111592037.4

一种硅控整流器、芯片及电路

20211228

CN202111619505.2

一种硅控整流器、芯片及电路

20211228

CN202111622482.0

圆形对称结构的LDMOS器件及其制备方法

20211228

CN202111623306.9

浪涌测试设备

20211029

CN202122636880.X

一种电流检测器及电路

20220107

CN202210014419.7

一种NLDMOS器件及制备方法、芯片

20220107

CN202210014429.0

一种CMOS器件的EOS失效率的预测方法和装置

20220117

CN202210046994.5

一种LDMOSFET、制备方法及芯片和电路

20220210

CN202210124399.9

一种LDMOSFET、制备方法及芯片、电路

20220214

CN202210132826.8

一种LDMOSFET、制备方法及芯片和电路

20220222

CN202210159442.5

一种LDMOSFET、制备方法及芯片和电路

20220222

CN202210159448.2

一种LDMOSFET、制备方法及芯片和电路

20220222

CN202210159453.3

人工电磁超表面及其制作方法

20220223

CN202210165206.4

浅槽隔离结构制作方法及浅槽隔离结构

20220224

CN202210171603.2

一种电流检测器和电路

20220301

CN202210191974.7

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220301

CN202210192181.7

LDMOSFET器件、制备方法以及芯片

20220308

CN202210218730.3

LDMOS器件场板隔离介质层的制作方法及LDMOS器件

20220315

CN202210250839.5

横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及其制作方法

20220316

CN202210257137.X

LDMOSFET器件、制作方法及芯片

20220318

CN202210270476.1

全隔离横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及其制作方法

20220321

CN202210275705.9

全隔离横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及制作方法

20220321

CN202210275705.9

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220321

CN202210276656.0

LDMOSFET晶体管的制作方法及LDMOSFET晶体管

20220324

CN202210296082.3

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220328

CN202210311019.2

一种磁传感器、电路和电能表

20220329

CN202210318799.3

高压横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及其制作方法

20220401

CN202210338138.7

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220401

CN202210339389.7

瞬态热阻的模拟系统与方法

20220408

CN202210367078.1

双栅LDMOSFET器件、制造方法及芯片

20220411

CN202210375514.X

LDMOSFET器件、制作方法及芯片

20220411

CN202210375521.X

有界波电磁脉冲模拟器设计方法及系统

20220418

CN202210405357.2

超结器件的制造方法

20220419

CN202210411907.1

绝缘栅双极型晶体管IGBT的制造方法

20220419

CN202210411916.0

LDMOSFET的制作方法及结构

20220420

CN202210414986.1

MIM电容器的制作方法及MIM电容器

20220505

CN202210479541.1

IGBT器件的制造方法及IGBT器件

20220512

CN202210515987.5

镂空立方体封装的三维磁传感器及其制作方法

20220517

CN202210532932.5

脉冲电场数据的处理方法与系统

20220523

CN202210561341.0

碳化硅LDMOSFET器件制造方法及碳化硅LDMOSFET器件

20220610

CN202210652972.3

横向扩散金属氧化物半导体的制备方法和器件

20220620

CN202210698562.2

超级结器件的制造方法、超级结器件、芯片和电路

20220624

CN202210722208.9

超级结器件的制造方法、超级结器件、芯片和电路

20220624

CN202210722210.6

半导体器件失效时刻预测方法、装置、设备及介质

20220628

CN202210740098.9

NLDMOS器件、NLDMOS器件的制备方法及芯片

20220711

CN202210810576.9

NLDMOS器件、NLDMOS器件的制备方法及芯片

20220711

CN202210810588.1

NLDMOS器件、NLDMOS器件的制备方法及芯片

20220711

CN202210810837.7

碳化硅LDMOSFET器件制造方法及碳化硅LDMOSFET器件

20220713

CN202210821617.4

异质结横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220721

CN202210858457.0

LDMOS器件及其制备方法以及芯片

20220725

CN202210875450.X

LDMOS器件、制备方法及芯片

20220725

CN202210875508.0

双沟道LDMOS器件及其制备方法以及芯片

20220725

CN202210875537.7

一种电能表及测量电流的方法

20220725

CN202210880438.8

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220808

CN202210944506.2

器件击穿电压确定方法、装置、芯片、电子设备及介质

20220808

CN202210944521.7

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20220808

CN202210944541.4

超结半导体器件及其制备方法

20220818

CN202210990168.6

用于对电路中的组成部件进行测评的方法和装置及电路

20220818

CN202210994071.2

用于对电路中的组成部件进行测评的方法和装置及电路

20220818

CN202210994445.0

用于对电路中的组成部件进行测评的方法和装置及电路

20220818

CN202210995289.X

用于对电路中的组成部件进行测评的方法和装置及电路

20220818

CN202210995869.9

MOS器件寿命预测方法、装置、电子设备、介质及程序产品

20220829

CN202211036892.1

CMOS器件寿命预测方法、装置、电子设备及介质

20220829

CN202211039166.5

AlGaN/GaN垂直型超结/半超结绝缘半导体场效应管及制作方法

20220907

CN202211090728.9

一种AlGaN/GaN垂直型高电子迁移率晶体管及其制作方法

20220907

CN202211100004.8

电压钳位的超结器件及制造方法

20220915

CN202211122807.3

功率半导体器件终端及制造方法

20220915

CN202211122924.X

一种离子注入机及离子注入机内衬的制作方法

20220915

CN202211123558.X

横向超结器件、横向绝缘栅双极晶体管及制造方法

20220915

CN202211124222.5

集成栅漏电容的超结器件及制造方法

20220915

CN202211124223.X

类脑计算芯片和数据处理终端

20220929

CN202211202953.7

LDMOS器件、LDMOS器件制造方法及芯片

20220930

CN202211205447.3

LDMOS器件、LDMOS器件制造方法及芯片

20220930

CN202211205608.9

LDMOS晶体管及其制造方法

20220930

CN202211205804.6

半导体器件、存算芯片、集成电路产品及操作方法

20220930

CN202211209170.1

基于长方体硅基通孔的三维磁传感器及其制造方法

20221021

CN202211292154.3

远程可视化系统与远程可视化方法

20221026

CN202211316648.0

工控机与数据监测系统

20221026

CN202211316658.4

工控机与数据备份系统

20221026

CN202211316659.9

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20221116

CN202211436896.9

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20221116

CN202211461416.4

复合材料组合物及复合材料的制备方法及复合材料和应用

20221221

CN202211651282.2

磁屏蔽装置、磁屏蔽装置的制备方法以及MRAM芯片

20221222

CN202211654973.8

联萘单体及其制备方法和环氧树脂及其制备方法和应用

20221226

CN202211686490.6

串口自适应电路、电子设备和电路板

20230131

CN202310046767.7

用于变更数据库表的表结构的方法和装置

20230203

CN202310054937.6

全隔离横向双扩散半导体器件及制造方法

20230119

CN202310055837.5

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20230119

CN202310056857.4

横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

20230119

CN202310056870.X

空气介质场板隔离的LDMOSFET器件及制造方法

20230119

CN202310060867.5

LDMOSFET器件的制造方法及LDMOSFET器件

20230119

CN202310061014.3

芯片功能验证系统、方法、存储介质及处理器

20230206

CN202310068013.1

3D混叠结构的三维磁场传感器及其制备方法

20230302

CN202310203775.8

低压差线性稳压器以及芯片

20230314

CN202310250523.0

用于带隙基准电路的启动电路以及芯片

20230314

CN202310265406.1

IGBT驱动电路、用于驱动IGBT的方法及芯片

20230427

CN202310475218.1

NOR Flash阵列可靠性测试装置、设备及方法

20230505

CN202310501016.X

包络检波电路及芯片

20230509

CN202310518544.6

IGBT的控制装置和控制方法、芯片及电路

20230517

CN202310560064.6

一种斩波放大器电路及设备

20230526

CN202310610445.0

一种低通滤波器及设备

20230526

CN202310612009.7

尼龙改性树脂及其制备方法、电磁屏蔽材料及电子设备

20230721

CN202310903035.5

超级结器件的制造方法、超级结器件、芯片和电路

20230727

CN202310928110.3

超级结器件的制造方法、超级结器件、芯片和电路

20230727

CN202310928114.1

磁传感器、防窃电的电能表

20230808

CN202310988221.3

芯片外部恒定磁场抗扰度检测装置及芯片

20230808

CN202310988227.0

基于压控磁各向异性的存储单元、磁随机存储器

20230829

CN202311096864.3

基于交换偏置的自旋轨道矩磁存储单元、磁随机存储器

20230830

CN202311105192.8

电流传感器芯片、制作方法和电路

20230921

CN202311221481.4

功率模块的循环试验装置及系统

20231031

CN202311436497.7

碳化硅MOSFET器件及制造方法、功率芯片

20231127

CN202311589953.1

计数器及计数方法、芯片、电子设备

20231214

CN202311724785.2

超结结构及其制造方法、超结半导体器件和半导体结构

20231226

CN202311799050.6

超结半导体的源区自对准注入方法及超结半导体结构

20240124

CN202410097708.7

超结半导体的自对准接触槽形成方法及超结半导体结构

20240124

CN202410099445.3

通信电源、MOS器件测评方法及系统

20240419

CN202410477518.8

横向半导体器件及制造方法

20240528

CN202410669075.2

宽禁带MOSFET器件及制造方法

20240725

CN202411007660.2

抗击穿碳化硅基MOS器件及其制备方法

20241122

CN202411678886.5

碳化硅基金属氧化物半导体场效应晶体管及其制备方法

20241122

CN202411678978.3

三维堆叠的单桥臂结构、制造方法及磁阻传感器

20250307

CN202510268212.6

芯片垂直方向上制备磁通聚集器的方法及对应的磁通聚集器

20250307

CN202510268213.0

多功能器件、芯片、多功能器件控制方法和装置

20250311

CN202510284592.2

感存一体自旋电子器件及制造方法、磁随机存储器

20250311

CN202510284595.6

一种适用于光纤传能的能量管理存储系统

20250414

CN202510464135.1

集成双沟道的碳化硅MOSFET器件及制备方法

20250529

CN202510708051.8

基于光热电的能信共传系统

20250607

CN202510755752.7

开关电源及电子设备

20250909

CN202511283929.4

电源板卡及其切换方法、控制设备、电力控制保护装置

20250911

CN202511298898.X

一种芯片设计阶段可靠性评估方法和装置

20170630

CN201510557112.1

一种芯片设计阶段可靠性评估方法和装置

20210127

CN201510557112.1

一种芯片可靠性设计的方法及装置

20210831

CN201711089861.1

仿真MOSFET温度电学特性的子电路模型的建立方法

20210901

CN201810523411.7

基于手动绑线机的高密度封装芯片失效定位方法

20210830

CN201910602633.2

具有稳定接触的微探针

20201230

CN201920516048.6

低温防雾化露化装置

20201230

CN201920870166.7

开关电源及电子设备

20260514

CN202511283929.4