超级结器件的制造方法、超级结器件、芯片和电路

本发明提供一种超级结器件的制造方法、超级结器件、芯片和电路，涉及半导体技术领域。该制造方法包括：提供具有外延层的衬底，所述衬底和所述外延层具有第一导电类型，且所述衬底为重掺杂；利用深沟槽光罩在外延层内形成深沟槽填充区，所述深沟槽填充区具有与所述第一导电类型不同的第二导电类型；其中，所述深沟槽填充区与两侧的外延层形成超级结结构；在所述深沟槽顶部形成体区刻蚀沟槽；在所述体区刻蚀沟槽内填充具有第二导电类型的填充材料，形成体区；在所述体区两侧的外延层表面形成栅氧和平面栅结构，形成所述超级结器件。通过本发明提供的方法，形成浓度均匀，并且范围精确的体区，准确控制超级结器件沟道长度和阈值电压。