金锐

北京智慧能源研究院

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金锐,国网智能电网研究院功率半导体研究所副所长兼芯片设计研究室主任,主要研究方向为大功率电力电子器件的研发,特别是IGBT等核心技术的突破,致力于芯片国产化。

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与 国家电网有限公司 的合作详情

共 139 项合作记录

一种绝缘栅双极晶体管

20120411

CN201210105487.0

一种高压快速恢复二极管制造方法

20120803

CN201210276136.6

一种IGBT芯片可变栅内阻及其设计方法

20120824

CN201210305948.9

一种5块掩模版IGBT芯片及其制造方法

20120824

CN201210305957.8

一种IGBT芯片背面制造方法

20121022

CN201210402834.6

一种基于截止环的高压大功率IGBT芯片及其设计方法

20121102

CN201210432069.2

一种快速恢复二极管及制造方法

20121105

CN201210436203.6

一种具有终端保护结构的IGBT芯片及其制造方法

20121204

CN201210513798.0

一种大功率IGBT模块封装结构

20121211

CN201210530554.3

一种IGBT芯片可变栅内阻

20120824

CN201220425538.3

一种新型快速恢复二极管

20121105

CN201220577975.7

一种具有终端保护结构的IGBT芯片

20121204

CN201220657945.7

一种半导体器件多级场板终端结构及其制造方法

20130220

CN201310054020.2

一种半导体器件测试装置及其测试方法

20130220

CN201310054142.1

一种全压接式绝缘栅双极晶体管器件

20130523

CN201310195328.9

一种大功率压接式IGBT器件

20131014

CN201310478518.1

一种基于N型注入层的IGBT芯片及其制造方法

20131030

CN201310527108.1

一种全压接式功率器件

20131104

CN201310538589.6

一种低浓度掺杂发射区的快恢复二极管芯片及其制造方法

20131108

CN201310553976.7

一种半导体器件多级场板终端结构

20130220

CN201320078947.5

一种全压接式绝缘栅双极晶体管器件

20130523

CN201320287253.2

一种大功率压接式IGBT器件

20131014

CN201320632802.5

一种基于N型注入层的IGBT芯片

20131030

CN201320678868.8

一种全压接式功率器件

20131104

CN201320689584.9

一种低浓度掺杂发射区的快恢复二极管芯片

20131108

CN201320705065.7

一种软快恢复二极管及其制造方法

20140306

CN201410081630.6

一种IGBT芯片及其制造方法

20140318

CN201410101546.6

改善有源区与终端连接区场强均匀性的IGBT器件及制造方法

20140922

CN201410488173.2

一种快恢复二极管及其制作方法

20141126

CN201410693539.X

一种平面栅IGBT及其制作方法

20141204

CN201410734307.4

具有低反向传输电容抗闩锁结构的平面栅IGBT及其制造方法

20141205

CN201410737058.4

一种快恢复二极管及其制造方法

20141205

CN201410742344.X

一种金属电极制造方法及其装置

20141231

CN201410853925.0

一种软快恢复二极管

20140306

CN201420101132.9

一种IGBT芯片

20140318

CN201420123728.9

一种改善有源区与终端连接区场强均匀性的IGBT器件

20140922

CN201420547169.4

一种快恢复二极管

20141126

CN201420721966.X

一种具有低反向传输电容抗闩锁结构的平面栅IGBT

20141205

CN201420760894.X

一种平面栅IGBT

20141204

CN201420761169.4

一种快恢复二极管

20141205

CN201420765448.8

一种金属电极制造装置

20141231

CN201420870469.6

一种具有改善安全工作区的IGBT器件及其制造方法

20150319

CN201510122358.6

一种具有空穴旁路结构的IGBT器件及其制造方法

20150319

CN201510123044.8

一种适用于压接式封装的IGBT芯片制造方法

20150513

CN201510240388.7

一种高压芯片钝化层的制造方法

20150513

CN201510240562.8

一种具有分离式集电极的平面栅IGBT及其制作方法

20150515

CN201510249973.3

一种低通态损耗IGBT及其制造方法

20150828

CN201510542149.7

一种快速恢复二极管及其制造方法

20150930

CN201510638966.2

一种快恢复二极管及其制作方法

20151016

CN201510674227.9

一种具有局域金属寿命控制的功率器件及其制作方法

20151023

CN201510695743.X

一种适用于压接式封装的IGBT芯片

20150513

CN201520304861.9

一种具有分离式集电极的平面栅IGBT

20150515

CN201520316286.4

一种快速恢复二极管

20150930

CN201520769928.6

一种快恢复二极管

20151016

CN201520803453.8

一种具有局域金属寿命控制的功率器件

20151023

CN201520828320.6

一种逆导型IGBT背面结构及其制备方法

20160425

CN201610262790.X

一种聚酰亚胺及其制备方法

20160425

CN201610262796.7

一种快速恢复二极管及其制造方法

20160615

CN201610424393.8

一种压接式IGBT/FRD芯片的正面电极加工方法

20160720

CN201610574275.5

一种垂直型半导体器件的双面终端结构

20160818

CN201610685489.X

一种平面终端钝化方法及半导体功率器件

20160822

CN201610701963.3

一种钝化层制造方法及高压半导体功率器件

20160823

CN201610704091.6

一种快恢复二极管及其制备方法

20160922

CN201610842716.5

一种终端钝化方法及半导体功率器件

20160922

CN201610843019.1

一种低通态压降IGBT及其控制方法、制造方法

20161102

CN201610943892.8

一种双面终端结构、逆导型半导体器件及其制备方法

20161122

CN201611026227.9

一种沟槽型IGBT及其制备方法

20161201

CN201611086000.3

一种金属电极制备方法及平面栅型压接式IGBT

20161209

CN201611125727.8

一种逆导型IGBT背面结构

20160425

CN201620356265.X

一种快速恢复二极管

20160615

CN201620582038.9

一种压接式IGBT/FRD芯片的正面电极

20160720

CN201620769675.7

一种垂直型半导体器件的双面终端结构

20160818

CN201620900426.7

高压半导体功率器件

20160823

CN201620919433.1

一种快恢复二极管

20160922

CN201621073091.2

一种终端结构、半导体器件及其制备方法

20170116

CN201710029590.4

一种高可靠性绝缘栅双极晶体管及其制作方法

20170630

CN201710524879.3

一种半导体功率器件及其终端结构

20170703

CN201710530888.3

一种高压功率器件的终端结构的制作方法

20170707

CN201710552953.2

一种高压IGBT局部放电电流时域参数的确定方法和装置

20170719

CN201710591993.8

在基板上形成绝缘沟槽的方法及半导体器件

20170808

CN201710674475.2

能进行终端横向耐压测试的IGBT版图

20170914

CN201710827886.0

具有软关断特性的FS型IGBT器件

20170914

CN201710827889.4

具有高抗短路能力的沟槽栅IGBT器件及其制备方法

20170914

CN201710827906.4

沟槽型半导体功率器件及其制备方法

20170914

CN201710828440.X

RC‑IGBT器件的背面加工方法

20171026

CN201711012160.8

用于压接式IGBT器件正面电极加工的基片

20171026

CN201711017439.5

RC-IGBT器件的背面结构制备方法

20171026

CN201711017441.2

RC‑IGBT器件的背面结构制备方法

20171026

CN201711017441.2

一种逆阻型IGBT的制造方法及逆阻型IGBT

20180510

CN201810444236.2

一种半导体器件及其制作方法

20180702

CN201810706963.1

快恢复二极管及其制备方法

20180828

CN201810990583.5

半导体器件及其制备方法

20180830

CN201811003587.6

一种IGBT、IGBT背面的制作方法和装置

20190116

CN201910040864.9

功率器件背面多峰值缓冲层结构、IGBT芯片和FRD芯片

20190617

CN201910521437.2

一种沟槽栅型IGBT器件及其制备方法、装置

20190916

CN201910870940.9

一种半导体器件单元及其制作方法及形成器件

20190930

CN201910937911.X

一种沟槽栅型IGBT结构

20191010

CN201910959594.1

一种IGBT芯片终端结构及IGBT芯片终端结构制作方法

20191223

CN201911333532.6

一种n型掺杂离子注入准确度的提升方法

20200220

CN202010104556.0

一种提高p型掺杂离子注入准确度的方法

20200220

CN202010106956.5

一种碳化硅功率器件制备中碳化硅外延片及其处理方法

20200330

CN202010238731.5

一种半导体芯片的测试装置

20200417

CN202010307229.5

一种半导体晶圆的检测设备

20200422

CN202010322087.X

一种功率半导体器件的芯片筛选方法及装置

20200426

CN202010340549.0

一种碳化硅衬底的处理方法

20200427

CN202010345960.7

一种半导体功率器件及其制作方法

20200509

CN202010386337.6

一种分区域渐变场限环终端结构及其设计方法

20200509

CN202010386415.2

一种高压功率半导体器件复合终端

20200515

CN202010409949.2

一种高压功率半导体器件

20200515

CN202010410064.4

一种IGBT器件的背面结构及其制备方法、IGBT器件

20200624

CN202010594130.8

一种功率芯片的制备方法以及功率芯片

20200806

CN202010783402.9

一种绝缘栅双极晶体管及其制备方法

20200930

CN202011059728.3

功率半导体器件终端、终端的制备方法及功率半导体器件

20210714

CN202110792613.3

一种绝缘栅双极型晶体管及其制备方法

20211207

CN202111487931.5

一种快速恢复二极管及其制备方法

20211217

CN202111547921.6

一种快速恢复二极管

20211217

CN202123173614.4

高压功率芯片及其制造方法、半导体器件及其制造方法

20220531

CN202210610621.6

一种绝缘栅双极晶体管及其制作方法

20220608

CN202210646218.9

一种绝缘栅双极晶体管及其制作方法

20220613

CN202210664903.4

一种快恢复二极管及其制作方法

20220615

CN202210680937.2

一种用于半导体芯片封装的结构

20220715

CN202210839504.7

一种减少碳化硅表面损伤的离子注入方法及碳化硅器件

20221101

CN202211357785.9

一种制备小角度SiC平缓台面的刻蚀方法及终端结构

20221101

CN202211358217.0

一种制备平缓的碳化硅斜面的方法及终端结构

20221101

CN202211358623.7

一种提高PECVD生长氧化硅薄膜致密性的方法及碳化硅器件

20221101

CN202211366740.8

一种提高注入离子掺杂深度的方法及碳化硅器件

20221101

CN202211366766.2

一种绝缘栅双极型晶体管及其制备方法

20221221

CN202211647982.4

一种SiC半导体器件的刻蚀方法

20221227

CN202211687933.3

比接触电阻检测样品的制备方法及比接触电阻检测样品

20221231

CN202211734844.X

一种双层掩膜改善钛铝腐蚀形貌的方法及器件

20230202

CN202310120878.8

一种高压功率二极管

20230315

CN202310270078.4

一种半导体器件及其制造方法

20230413

CN202310395190.0

一种动态测试平台器件状态检测电路及方法

20230419

CN202310423112.7

一种适用于高压功率芯片的终端结构及制造方法

20230526

CN202310602819.4

一种集成混合式PiN-肖特基二极管的碳化硅MOSFET

20230831

CN202311120002.X

一种特殊半导体器件的钛铝腐蚀方法

20230925

CN202311238579.0

一种适用于高压功率芯片的终端结构

20230526

CN202321297019.8

一种集成混合式PiN-肖特基二极管的碳化硅MOSFET

20230831

CN202322363052.2

一种绝缘栅双极晶体管

20140327

CN201220151783.X

IGBT芯片的背面结构、IGBT芯片结构及制备方法

20200819

CN201811379016.2