失效

兼容标准CMOS工艺的伪差分结构非易失性存储器

李文晓、李建成、李聪、尚靖、王震、吴建飞、王宏义、谷晓忱、李浩
中国人民解放军国防科学技术大学

摘要

本发明公开了一种兼容标准CMOS工艺的伪差分结构非易失性存储器,解决了不能与标准CMOS工艺兼容问题,采用了差分输出结构,缩小了存储单元结构的面积,包括多个存储单元,每个存储单元包括控制管、第一隧穿管、第二隧穿管、第三隧穿管、第一转换管、第二转换管、第一选择管和第二选择管共8个晶体管,所有的晶体管均为单多晶硅栅结构和相同厚度的栅氧化层,该存储单元与标准CMOS工艺兼容;本发明降低应用成本,减少技术开发周期,稳定性好,读取速度比较快,可靠性高。