王世玮

王世玮来自清华大学，专利1件。擅长图纹光刻技术、非透镜光学。最擅长图纹光刻技术。排名在TOP100。一种双光束曝光系统中光栅衍射波面误差的反馈调节方法是存续时间最长的专利。与北京至格科技有限公司合作1次，与曾理江合作1次。