陈加旺

陈加旺来自中国科学院微电子研究所，专利1件。擅长半导体制造、器件制造处理、蚀刻组合物。最擅长半导体制造。排名在TOP100。一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法是存续时间最长的专利。与李星合作1次。