1.一种刻蚀辅助剂，其特征在于，以质量百分比计，包括以下组分：0.1-2.0wt％亚甲基双萘磺酸钠、0.1-2.0wt％绒面催化剂、0.005-0.05wt％脱泡剂、0.001-0.05wt％外观修饰剂、0.1-2.0wt％反应调节剂，余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的刻蚀辅助剂，其特征在于，以质量百分比计，包括以下组分：0.5-1.0wt％亚甲基双萘磺酸钠、0.5-1.0wt％绒面催化剂、0.01-0.02wt％脱泡剂、0.01-0.03wt％外观修饰剂、0.8-1.2wt％反应调节剂，余量为去离子水。
3.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂，其特征在于，所述绒面催化剂为聚环氧琥珀酸、烷基糖苷、十二烷基硫酸钠或十二烷基苯磺酸钠中的一种。
4.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂，其特征在于，所述脱泡剂为环糊精、羟乙基纤维素、羟丙甲基纤维素、阿拉伯胶、瓜尔胶或黄原胶中的一种。
5.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂，其特征在于，所述反应调节剂为无机钠盐和/或有机钠盐；和/或，所述外观修饰剂为高聚醇类物质或低聚醇醚类物质。
6.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂，其特征在于，所述高聚醇类物质为聚乙二醇200，聚乙二醇400，聚乙二醇600，聚乙二醇800或聚乙二醇1000；和/或，所述低聚醇醚类物质为二乙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三缩乙二醇丁醚或四缩乙二醇丁醚。
7.根据权利要求6所述的刻蚀辅助剂，其特征在于，所述无机钠盐包括碳酸钠和/或硅酸钠；和/或，所述有机钠盐包括三聚磷酸钠，柠檬酸钠，乳酸钠和酒石酸钠中的一种或两种。
8.一种权利要求1-7任一项所述的刻蚀辅助剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将0.1-2.0wt％亚甲基双萘磺酸钠、0.1-2.0wt％绒面催化剂、0.005-0.05wt％脱泡剂、0.001-0.05wt％外观修饰剂、0.1-2.0wt％反应调节剂，依次加入去离子水中，所述刻蚀辅助剂中两相邻组分添加时间隔1-2min；在500-600rpm下搅拌得到所述刻蚀辅助剂。
9.一种权利要求1-7任一项所述的刻蚀辅助剂的应用方法，其特征在于，将所述刻蚀辅助剂加入到KOH溶液中，搅拌均匀制成刻蚀液；将单晶硅放入所述刻蚀液中刻蚀得到刻蚀后的单晶硅。
10.根据权利要求9所述的应用方法，其特征在于，所述刻蚀辅助剂和KOH溶液的质量比为(1.0-5.0)：100；所述KOH溶液的浓度为0.5-2.0wt％；所述搅拌的速率为500-600rpm；所述刻蚀在70-80℃条件下进行，所述刻蚀的时间为900-1500s。
