双二阶低通滤波器以及高频有源无电感低通滤波电路
20231228CN202311845721.8
一种避免光刻胶沾污的二维材料器件制造方法
20170527CN201710391250.6
一种基于双层光刻胶工艺的二维材料场效应管制造方法
20170512CN201710334562.3
一种基于自对准工艺的石墨烯场效应晶体管制造方法
20170508CN201710317603.8
一种悬浮石墨烯‑硅异质结晶体管结构及其制造方法
20170504CN201710308536.3
一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法
20160510CN201610306272.3
一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法
20160510CN201610304217.0
减小金属与石墨烯接触电阻的方法及石墨烯FET器件
20160510CN201610304232.5
金属石墨烯双面接触结构的制备方法及石墨烯晶体管
20160510CN201610306028.7
一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法
20160510CN201610306295.4
石墨烯场效应管的制备方法及形成的石墨烯场效应管
20160427CN201610269687.8
基于石墨烯的超级电容电极材料的制备方法
20160426CN201610266171.8
减小顶栅石墨烯场效应晶体管欧姆接触的方法
20160426CN201610266868.5
基于石墨烯的超级电容电极材料的制备方法
20160426CN201610266672.6
一种将石墨烯从金属表面向目标衬底表面无损转移的方法
20141215CN201410779092.8
一种将金属铜表面CVD的石墨烯向目标衬底表面转移的方法
20141215CN201410777633.3
一种对机械剥离石墨烯表面进行原子级清洁处理的方法
20141211CN201410764087.X
可控清除石墨烯-金属接触区域残留光学光刻胶的方法
20141211CN201410763701.0
无残留光学光刻胶石墨烯FET的制备及原位表征方法
20141211CN201410763616.4
一种采用自对准工艺制作石墨烯场效应晶体管器件的方法
20141011CN201410535591.2
通过自对准工艺制备石墨烯顶栅场效应晶体管器件的方法
20141011CN201410535650.6
一种碳基半导体器件制备工艺中对衬底进行预处理的方法
20130912CN201310414732.0
一种可调控碳基半导体器件载流子浓度的表面处理方法
20130912CN201310414720.8
一种提高碳基半导体器件迁移率的衬底处理方法
20130912CN201310414069.4
一种石墨烯场效应晶体管及其制备方法
20130608CN201310228701.6
一种减小石墨烯顶栅FET器件寄生电阻的方法
20130608CN201310228422.X
一种自对准石墨烯场效应晶体管及其制备方法
20130607CN201310226455.0