在审
忆阻器、制备方法和电子设备
摘要
本公开是关于一种忆阻器、制备方法和电子设备;其包括:底电极、设置于底电极的一个表面上的忆阻功能层、以及设置于忆阻功能层远离底电极的表面上的顶电极;忆阻功能层包含非晶MoS<Sub>2</Sub>材料;本公开所提供的忆阻器的开关电压高度一致,开关稳定性也得到显著提高,克服了忆阻器的稳定性差的问题,并且还具有可调节的V<Sub>SET</Sub>值,使得忆阻器的功耗和工作窗口灵活可调。
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本公开是关于一种忆阻器、制备方法和电子设备;其包括:底电极、设置于底电极的一个表面上的忆阻功能层、以及设置于忆阻功能层远离底电极的表面上的顶电极;忆阻功能层包含非晶MoS<Sub>2</Sub>材料;本公开所提供的忆阻器的开关电压高度一致,开关稳定性也得到显著提高,克服了忆阻器的稳定性差的问题,并且还具有可调节的V<Sub>SET</Sub>值,使得忆阻器的功耗和工作窗口灵活可调。