在审

忆阻器、制备方法和电子设备

单玉凤、阮罗渊、白石根、林虹宇、宋睿烜、杜瑀、邓惠勇、戴宁
之江实验室

摘要

本公开是关于一种忆阻器、制备方法和电子设备;其包括:底电极、设置于底电极的一个表面上的忆阻功能层、以及设置于忆阻功能层远离底电极的表面上的顶电极;忆阻功能层包含非晶MoS<Sub>2</Sub>材料;本公开所提供的忆阻器的开关电压高度一致,开关稳定性也得到显著提高,克服了忆阻器的稳定性差的问题,并且还具有可调节的V<Sub>SET</Sub>值,使得忆阻器的功耗和工作窗口灵活可调。

暂无引用专利