有效

一种多cell纯铌腔内表面铌三锡镀膜设备

杨自钦、何源、李璐、张军辉、赵玉刚、张生虎、王志军、蒋广泽
中国科学院近代物理研究所

摘要

本发明公开了一种多cell纯铌腔内表面铌三锡镀膜设备。它包括:外真空系统,用于提供镀铌三锡薄膜的温度与真空度条件,包括真空炉的外真空腔体和用于提供外真空腔体内真空环境的外腔体真空系统;内真空系统,用于提供镀铌三锡薄膜洁净的生长环境,包括真空炉的纯铌腔室和用于提供纯铌腔室内真空环境的内腔体真空系统;纯铌腔室设置于外真空腔体内,用于放置多cell铌腔和锡源蒸发腔,锡源蒸发腔固定在多cell铌腔两端,用于盛放锡源的容器;铌腔输送装置,用于将多cell铌腔输送至内真空腔体内;加热电源系统,用于提供蒸镀铌三锡薄膜过程热量;电气自动控制系统,用于控制镀铌三锡薄膜制备过程并采集制备过程各项参数且进行分析反馈。本发明镀膜方便、均匀。