一种二硫化钼纳米片的制备方法

1.一种二硫化钼纳米片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将含硫物和钼片放置在密闭环境中；使所述密闭环境中产生磁场强度为5×10 -5 T至4×10 -3 T磁场并保证所述含硫物和钼片置于所述磁场中；反应一定时间后，停止磁场；降温后则可得到位于钼片边缘的二硫化钼纳米片。 2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述反应时间为5s至1h。 3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述密闭环境的真空度不大于1KPa。 4.根据权利要求1至3任意一项所述的方法，其特征在于，所述含硫物的含硫量不小于0.1%。 5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述含硫物为硫单质、硫化物或二硫化物中的一种或几种的混合物。 6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含硫物覆盖在所述钼片的表面。