有效

一种在超导腔内部对锡源进行局部加热的双电极直流结构

杨自钦、何源、吴安东、李雪峰、李世珍、谢斌、初青伟、皇世春、谭腾、张生虎
中国科学院近代物理研究所

摘要

本发明提供一种在超导腔内部对锡源进行局部加热的双电极直流结构。包括:具有若干加速单元的超导腔,所述超导腔为NbSn薄膜生长的衬底结构;两根加热电极,一根作为正电极,另一根作为负电极,所述两根加热电极贯通所述超导腔,在所述超导腔内部对锡源进行加热;若干薄壁锡源坩埚,所述超导腔的每一个加速单元内均放置有一个薄壁锡源坩埚,所述若干薄壁锡源坩埚均横跨在所述两根加热电极上与所述两根加热电极组成直流回路;温度热偶,用于测量所述超导腔内锡源的温度。本发明能够对位于多加速单元超导腔内部的多个锡源进行局部加热,在每个加速单元内均实现超导腔与锡源的单独控温,使每一个加速单元均拥有相同的“超导腔‑锡源”温度组合。