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专利列表
- 有效
一种用于光刻掩模优化的梯度计算方法和系统
申请日: 20250214 公开日: 20251021 申请人: 华中科技大学
- 在审
极紫外光刻部分相干成像建模方法、装置和电子设备
申请日: 20240701 公开日: 20240920 申请人: 华中科技大学
- 有效
一种三维图案化掩模或晶圆散射近场的快速计算方法
申请日: 20220819 公开日: 20240702 申请人: 华中科技大学
- 在审
一种基于光束传播法的极紫外光刻仿真方法及系统
申请日: 20240422 公开日: 20240625 申请人: 华中科技大学
- 在审
降低内存占用的光学仿真方法、系统、设备以及存储介质
申请日: 20240126 公开日: 20240503 申请人: 华中科技大学
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