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专利列表
- 有效
一种用于高纯材料生长的CVD管式炉
申请日: 20200927 公开日: 20210528 申请人: 中国科学院金属研究所
- 有效
一种高压互感器真空压力浇注设备
申请日: 20191127 公开日: 20201016 申请人: 中国科学院金属研究所
- 有效
一种真空压力浸渍系统
申请日: 20190718 公开日: 20200710 申请人: 中国科学院金属研究所
- 有效
一种环境模拟试验装置
申请日: 20190718 公开日: 20200515 申请人: 中国科学院金属研究所
- 失效
一种高压互感器真空压力浇注设备及浇注工艺
申请日: 20191127 公开日: 20200327 申请人: 中国科学院金属研究所
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