和致经

和致经来自中国科学院半导体研究所，专利20件。擅长半导体制造、金属层、图纹光刻技术、印刷电路制造。最擅长半导体制造。排名在TOP6。一种制作氮化镓基场效应晶体管的方法是存续时间最长的专利。与中科芯未来微电子科技成都有限公司合作5次，与刘新宇合作14次。