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专利列表
- 在审
衍射光学元件及其制备方法
申请日: 20251229 公开日: 20260127 申请人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 有效
一种刻蚀深度的后处理方法
申请日: 20250123 公开日: 20250923 申请人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 有效
一种激光直写光刻系统图案位置误差的标定及补偿方法
申请日: 20240815 公开日: 20250919 申请人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 有效
一种非球面补偿元件的加工方法及非球面补偿元件
申请日: 20211224 公开日: 20250321 申请人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 有效
一种高线密度CGH制作精度的测量方法及系统
申请日: 20200426 公开日: 20241217 申请人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
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