高大为

高大为，浙江大学微纳电子学院先进集成电路制造技术研究所研究员，先进集成电路制造技术研究所所长。

主要研究领域：集成电路制造、逻辑/模拟电路工艺、功率器件、电源管理。

1998年毕业于日本九州大学电子工程专业

历年科研重点

半导体制造计算机辅助设计压电电致伸缩器件固态薄膜厚膜器件字符文档识别图纹光刻技术生物模型计算光掩模模式识别 H01L29 势垒电极

技术领域排名

专利列表

显示 1-5 条，共 227 条

产研合作关联

CN202311794334.6

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CN202410335901.X

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CN202410529338.X

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CN202411080197.4

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CN202510489564.4

CN202510615936.3

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CN202510864954.5

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CN202512003618.4

CN202512003620.1

CN202410959456.4

教育背景

一种基于沟道热电子诱导热空穴注入的非易失性存储器快速擦除方法及其应用

基于图像块引导生成对抗网络的晶圆缺陷定位方法

电容结构及其形成方法

半导体结构及其形成方法

一种标准单元组合版图良率风险评估方法及系统

基于低能量轻离子注入的自对准金属硅化物形成工艺

一种LDMOS器件

一种新型栅极的LDMOS器件结构

一种非易失性1.5T浮栅型FLASH存储器

高擦写速度和可靠性的电荷俘获型存储器及其制造方法

一种晶圆匀胶装置及匀胶方法

一种超大规模版图的图形匹配方法及系统

一种3T结构电荷俘获型闪存存储器及其制造方法

一种基于RTree的快速版图模式匹配方法

基于反向光刻技术的SRAF插入规则构建方法及系统

一种漏极拓展阶梯场板SOI-FinFET器件

一种空间索引四叉树应用于版图模式识别的快速匹配方法

浮栅型存储器TCAD仿真模型的校准方法、设备及存储介质

一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法

一种超短沟道二维场效应晶体管

一种半导体器件刻蚀工艺智能制造方法及设备、储存介质

一种半导体器件版图图形的CD-SEM测量方法和设备

自动化ESD保护器件版图设计与版图驱动的模拟仿真方法

一种沟槽型的浮栅型闪存存储器及其制造方法

基于FDC数据的卷积神经网络预测光刻胶膜厚的方法

一种边墙栅氧工艺的可靠性评估方法和系统及其电子设备

一种浮栅型闪存单元及其制造方法

一种双栅LDMOS器件及其制备方法

一种优化集成电路离子注入工艺参数的方法

基于逐步回归的光刻工艺窗口分析方法、装置和设备

一种基于粒子群优化算法的CMOS工艺优化方法及系统

一种基于多层感知机的逆向光刻方法

一种基于形态学处理的扫描电镜图像轮廓提取方法

无监督扫描电子显微镜图像的失真矫正匹配方法和系统

一种低温度漂移和低电压漂移的环形振荡器电路

一种双场板LDMOS器件结构及其制备方法

一种提高浮栅型存储器数据保持力的方法及其产品

一种1.5T SONOS器件及其制备方法

一种基于扩散模型的软传感器技术数据生成方法和系统

一种自监督加强的半监督的晶圆失效预测方法及系统

一种具有高压隔离功能的电感耦合岛芯片架构及封装方法

一种具有高压隔离功能的电容耦合岛芯片架构及封装方法

一种加速光刻热点检测的方法及装置

一种基于深度学习的光刻热点检测方法及装置

一种具有多段电流驱动的栅极驱动电路

一种高电导线性度的存储器器件

一种具有齿状场氧的LDMOS器件结构及其制备方法

一种基于机器学习的分裂栅存储器参数优化方法

一种具有变角度漏斗形场氧结构的LDMOS器件

晶圆形貌测量方法、装置、计算机设备及可读存储介质

一种用于化学机械研磨晶圆的参数确定方法及系统

一种半导体器件刻蚀结构预测方法及设备、储存介质

一种基于贝叶斯模型的SRAF放置方法

一种基于沟道热电子诱导热空穴注入的非易失性存储器快速擦除方法及其应用

一种基于边级定位的光刻热点检测方法

一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法

一种提高铝金属刻蚀速率的方法