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专利列表
- 在审
一种考虑网格依赖性的光学临近效应修正方法及系统
申请日: 20260126 公开日: 20260403 申请人: 华中科技大学
- 有效
一种用于光刻掩模优化的梯度计算方法和系统
申请日: 20250214 公开日: 20251021 申请人: 华中科技大学
- 在审
一种套刻误差散射测量中的散射场图像配准方法及系统
申请日: 20250612 公开日: 20250930 申请人: 华中科技大学
- 有效
一种光刻胶曝光过程准动态原位椭偏测量方法及系统
申请日: 20230529 公开日: 20250916 申请人: 华中科技大学
- 有效
一种基于光学衍射的角分辨偏振散射套刻误差提取方法
申请日: 20240805 公开日: 20250912 申请人: 华中科技大学
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