一种渐变槽深倾斜光栅刻蚀系统

本实用新型提供一种渐变槽深倾斜光栅刻蚀系统，包括基台、第一刻蚀挡板以及离子源设备。基台与离子束刻蚀腔室内的移动组件连接，基台的侧面设置通过斜面构造体与待刻蚀基板的底面连接；第一刻蚀挡板固定在离子束刻蚀腔室内，第一刻蚀挡板内设置第一开孔区域，第一开孔区域在移动组件带动基台移动方向上的不同区域的开孔长度不同；离子源设备固定设置在离子束刻蚀腔室内，用于发射离子束，离子束的出射方向与基台的所述侧面的所在平面之间为垂直关系；本实用新型提供的渐变槽深倾斜光栅刻蚀系统可以制备得到渐变槽深倾斜光栅，将渐变槽深倾斜光栅用作光栅波导的耦出光栅时，光栅波导显示图像获得较好的色彩均一性。