在审

图像校正方法及装置、物料分选方法及装置、介质和程序产品

徐晓莹、周合军、张植俊、张俊斌、韩文学、卞振华、刘家良、王振严、张志淙、李沛超
同方威视技术股份有限公司

摘要

本申请提供了一种图像校正方法,涉及图像处理领域、辐射成像领域、物料分选领域或其他技术领域。该方法包括:响应于射线源发出射线辐射目标物料,根据成像探测器探测到的射线信号确定第一校正参数,以及根据能量探测器探测到的射线信号确定第二校正参数;将第一校正参数和第二校正参数进行加权处理,得到融合校正参数;利用融合校正参数针对目标物料的初始辐射图像的预定图像参数进行校正,得到目标物料的目标辐射图像,其中,初始辐射图像是根据成像探测器探测到的射线信号得到的。本申请还提供了一种图像校正装置、物料分选方法及装置、存储介质和程序产品。

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