在审
一种具有高阈值电压的常关型的晶体管及其制作方法
摘要
本申请公开了一种具有高阈值电压的常关型的晶体管及其制作方法,晶体管包括衬底、以及依次叠层设于衬底之上的缓冲层、沟道层、势垒层和栅极;沟道层包括GaN,势垒层包括AlGaN,沟道层和势垒层形成二维电子气层;栅极包括p‑GaN和原子插层,原子插层插入至GaN的晶格之间的间隙中。如此,使得晶体管的阈值电压为正值,得到了常关型的晶体管,并且原子插层还可以进一步提高阈值电压。
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本申请公开了一种具有高阈值电压的常关型的晶体管及其制作方法,晶体管包括衬底、以及依次叠层设于衬底之上的缓冲层、沟道层、势垒层和栅极;沟道层包括GaN,势垒层包括AlGaN,沟道层和势垒层形成二维电子气层;栅极包括p‑GaN和原子插层,原子插层插入至GaN的晶格之间的间隙中。如此,使得晶体管的阈值电压为正值,得到了常关型的晶体管,并且原子插层还可以进一步提高阈值电压。