一种X射线光刻灰度掩模版纳米结构的表征方法

本发明公开了一种X射线光刻灰度掩模版纳米结构的表征方法，涉及微纳加工技术领域。本发明在进行聚焦离子束截面制备前，于待测的X射线光刻灰度掩模版纳米结构表面顺序沉积一种多层复合保护膜，该保护膜结构由下至上依次为：第一碳层、第一钨层、第二碳层及第二钨层；该结构通过碳层隔绝钨层的污染，确保界面成分分析的纯净度，同时利用钨层提供机械支撑与抗离子溅射能力，保护纳米结构的原始三维形貌，最后通过聚焦离子束切割并利用扫描电子显微镜‑能量色散X射线光谱仪检测分析，实现了对X射线光刻灰度掩模版纳米结构的深度、侧壁形貌及元素成分的准确表征。