一种基于纳米压印单元拼贴的大面积曲面微纳结构减反射表面制备方法

本发明属于光学微纳制造技术领域，提供了一种基于纳米压印单元拼贴的大面积曲面微纳结构减反射表面制备方法，包括：机械减薄、单元边长设定、基材切割、基片清洗、压印模板制备、压印基片制备、粘接层喷涂、逐片贴合、压合处理以及紫外线照射；本发明通过将原始基材进行减薄处理和切割处理，实现了将目标压印图案划分为若干个压印基片，小尺寸单元贴合时仅产生局部可逆弯曲，避免了断裂事故，提高了对具有一定曲率的基底表面的包覆程度；通过将单一的基材转换为若干个小尺寸单元，减轻了对大面积微纳结构表面制备的难度，使得单个单元存在缺陷时能够快速修复，避免了整片报废；通过蜂窝状拼接方法，能够扩展至超大型平面及微曲面的窗口元件。