1.一种适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，包括旋转基座、载盘组件、抽真空装置；其特征在于：所述旋转基座具有一旋转中心轴线以及具有与旋转中心轴线同轴设置的承载端面；所述承载端面上分布设有若干个吸气结构；所述旋转基座上设有与吸气结构连通的气体通道；所述抽真空装置用于对气体通道抽真空；所述载盘组件可拆卸地设置于承载端面上，包括若干个内外相互套接的环形定位盘；每个所述环形定位盘的内周面围合形成用于容纳晶圆的晶圆定位空间；最外层的所述环形定位盘与旋转基座之间设有用于使两者同轴设置的限位结构；相邻的两个所述环形定位盘中，内层的环形定位盘插接定位于外层的环形定位盘的晶圆定位空间中。
2.根据权利要求1所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述吸气结构为在承载端面上延伸的沟槽。
3.根据权利要求1所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述限位结构包括设置于旋转基座上的定位柱体、设置于最外层的环形定位盘上的定位缺口；若干个所述定位柱体沿旋转基座的圆周方向间隔布置；所述定位缺口与定位柱体相对应设置，且两者在旋转中心轴线方向插接配合。
4.根据权利要求1所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述承载端面具有中心区域以及具有自中心区域向外侧依次套接的环形区域；所述吸气结构分布于中心区域和环形区域中；自最外层所述环形区域起的若干个环形区域中依次设置所述环形定位盘。
5.根据权利要求4所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：每个所述环形定位盘具有封盖对应环形区域上的吸气结构的配合位置。
6.根据权利要求4所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述晶圆真空吸附旋转载盘包括升降机构；所述升降机构包括升降座、驱动机构；所述升降座设置于旋转基座上，且沿旋转中心轴线方向活动设置；所述升降座上设有若干个顶杆；所述承载端面上位于中心区域和若干个环形区域中设有第一避让孔；所述顶杆活动穿插于第一避让孔中；所述环形定位盘上对应第一避让孔设有第二避让孔；所述驱动机构与升降座传动连接，且具有驱使升降座沿旋转中心轴线方向移动且允许升降座跟随旋转基座旋转的传动连接状态。
7.根据权利要求6所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述驱动机构包括环形结构件和用于驱使环形结构件沿旋转中心轴线方向移动的驱动组件；所述环形结构件与旋转基座同轴设置；所述升降座具有与环形结构件在旋转中心轴线方向上相抵接的活动端。
8.根据权利要求6所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述升降机构包括升降座和旋转基座之间的弹性部件。
9.根据权利要求4所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述中心区域内的吸气结构以及各个环形区域内的吸气结构相互独立设置；对应所述中心区域设有与中心区域内的吸气结构连通的气体通道，以及对应每个所述环形区域设有与环形区域内的吸气结构连通的气体通道。
10.根据权利要求9所述的适用于多尺寸晶圆的晶圆真空吸附旋转载盘，其特征在于：所述抽真空装置包括气动旋转接头、控制阀体、真空发生器；所述气动旋转接头与旋转基座同轴设置；所述气动旋转接头的第一端与各个气体通道相连通，气动旋转接头的第二端上对应每个气体通道设有所述控制阀体；所述真空发生器与各个控制阀体相连接。
