一种用于薄膜沉积中覆盖环的表面处理方法

本发明公开了一种用于薄膜沉积中覆盖环的表面处理方法，包括：设计多磨粒刻划刀具、夹持组件及覆盖环固定卡盘；通过刻划加工路径与力学参数的设定实现目标表面粗糙度的均匀划痕结构；所述力学参数设定具体调整轴向进给量，将设定的位移量转化为弹簧的弹性势能，从而施加定量可控的载荷以压紧刀头与覆盖环表面；所述刻划加工路径设定具体通过多磨粒刻划刀具的多磨粒排列的结构特点、磨粒间距、旋转角度及划痕覆盖率来设定多磨粒刻划刀具的旋转角度，且所述旋转角度为锐角。根据本发明，该方法能够实现对覆盖环表面粗糙度的宽域控制，有效减少表面污染和损伤，提升了覆盖环表面薄膜的附着力和表面完整性，从而有效延长薄膜的使用寿命，减少开腔清洗频率，有助于提高薄膜沉积工艺的稳定性和生产效率。