1.一种氮化镓器件结构的制备方法,其特征在于,包括:提供氮化镓器件,所述氮化镓器件包括依次层叠的衬底和外延结构;将所述氮化镓器件放置在辐照平台上,并利用辐照处理系统对氮化镓器件进行预设剂量和预设能量的辐照处理,以在所述外延结构中引入缺陷而对所述外延结构的陷阱效应进行调制;其中,当所述氮化镓器件为平面型氮化镓器件时,所述外延结构包括碳故意掺杂氮化镓和非故意掺杂氮化镓依次层叠组成的缓冲层和沟道层,所述辐照处理包括质子辐照处理和紫外光辐照的组合处理,以使所述缓冲层的内部陷阱对载流子的捕获率小于释放率;所述质子辐照处理与紫外光辐照处理的组合处理的步骤,包括:通过所述辐照处理系统对所述外延结构进行所述质子辐照处理,利用所述质子辐照的位移效应在所述沟道层中引入缺陷;通过所述辐照处理系统对所述外延结构进行所述紫外线辐照处理,利用所述紫外线辐照对所述外延结构的表面缺陷进行修复,并为所述缓冲层的内部陷阱对载流子释放提供能量。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述辐照处理系统还包括第一辐照控制组件,所述第一辐照控制组件包括硅二极管探测器、法拉第杯和四极透镜,所述质子辐照处理采用硅二极管探测器监测辐照束流的能量,采用法拉第杯监测辐照束流的剂量,采用四极透镜使辐射束流散焦并实现均匀辐射。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述辐照处理系统还包括第二辐照控制组件,所述第二辐照控制组件包括紫外探测器和光束均化器,所述紫外光辐照处理采用紫外探测器对辐射紫外线的强度进行监测,采用光束均化器对辐射紫外线进行散焦并实现均匀辐射;其中,所述氮化镓器件进行所述紫外光辐照处理的环境气体为O 3 。
4.一种氮化镓器件结构,其特征在于,包括采用权利要求1~3任意一项所述氮化镓器件结构的制备方法制备而成。