一种激光精密加工碳化硅表面的调控方法

1.一种激光精密加工碳化硅表面的调控方法，其特征在于，具体包括以下步骤：S1，高斯脉冲激光器(1)发出的脉冲激光依次经过能量衰减器(2)、空间光调制器(3)、取样镜(4)、第一反射镜(7)、第二反射镜(8)、第三反射镜(9)及搭载在Z轴位移平台(10)上的聚焦系统(11)，辐照碳化硅表面(12)，所述碳化硅表面(12)设置在X-Y轴位移平台(13)，取样镜(4)分出的两束光分别由能量计(5)和光束质量分析仪(6)收集记录，对主光路的能量和光斑尺寸进行实时监测；S2，计算机(15)通过衰减器(2)对入射激光能量E 0 进行调节，对碳化硅表面(12)的烧蚀区域进行不同能量的单脉冲激光辐照，根据辐照至碳化硅表面(12)的光斑面积S 0 ，得到辐照至所述碳化硅表面(12)的激光能量密度φ 0 ，激光能量密度φ 0 ＝E 0 /S 0 ；单脉冲激光辐照后通过计算机(15)控制所述X-Y轴位移平台(13)，对所述碳化硅表面(12)其他位置烧蚀区域进行不同能量密度的激光辐照，并利用CCD相机(14)对所述碳化硅表面(12)烧蚀直径D进行测量，同时利用共轴的拉曼光谱激发光源(15)辐照所述碳化硅(12)的烧蚀区域，并利用拉曼光谱收集模块(17)对烧蚀区域不同位置的拉曼光谱进行记录；S3，按照公式Ⅰ拟合得到所述碳化硅表面(12)不同烧蚀区域的烧蚀阈值φ th ，ω 0 为烧蚀区域焦点处半径，得到实现不同烧蚀直径D所需要的对应激光能量密度φ 0 关系；S4，利用拉曼光谱，按照公式Ⅱ计算特征峰灰度值强度为零位置处的碳化阈值I carbonation ，I 0 为入射峰值光强，τ为入射激光脉宽，I 0 ＝φ 0 /τ，得到不同碳化硅表面的碳化阈值I carbonation 所对应的烧蚀直径D以及所对应的入射峰值光强I 0 。 2.根据权利要求1的一种激光精密加工碳化硅表面的调控方法，其特征在于，所述激光器(1)为皮秒或者飞秒的超短脉冲激光。 3.根据权利要求1的一种激光精密加工碳化硅表面的调控方法，其特征在于，所述碳化硅表面(12)为高纯或者任意掺杂浓度的掺杂碳化硅。 4.根据权利要求1的一种激光精密加工碳化硅表面的调控方法，其特征在于，所述空间光调制器(3)调节入射激光光斑为空间高斯分布的高斯光斑。 5.根据权利要求1的一种激光精密加工碳化硅表面的调控方法，其特征在于，所述CCD相机(14)与激光辐照的所述碳化硅表面(12)呈角度θ设置，得到实际烧蚀或碳化区域的半径r，r＝r l ×tanθ，求中，r l 为所述CCD相机(14)拍摄实际烧蚀或碳化区域椭圆形长轴半径。