二氧化锡气敏材料的制备方法、二氧化氮传感器及制备方法

1.一种二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将石墨烯材料和锡前驱体分散于酸性水溶液中，获得混合前驱液；所述混合前驱液经水浴加热处理，获得含有二氧化锡和石墨烯材料的复合前体材料，水浴加热的温度为60℃~80℃，时间为3h~6h；所述复合前体材料经煅烧处理，获得二氧化锡纳米片，煅烧处理的温度为600℃~800℃，时间为2h~4h；将所述二氧化锡纳米片置于等离子体腔室中，向所述等离子体腔室中通入氮气并生成氮等离子体，通过所述氮等离子体对所述二氧化锡纳米片进行表面处理，制得所述二氧化锡气敏材料；所述氮气的流速为50sccm~300sccm，生成所述氮等离子体的电源功率为150W~200W，所述表面处理的持续时间为10s~300s。 2.根据权利要求1所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，所述氮气的流速为80sccm~120sccm。 3.根据权利要求2所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，生成所述氮等离子体的电源功率为150W~170W。 4.根据权利要求1所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，所述表面处理的持续时间为120s~150s。 5.根据权利要求1~4任意一项所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，所述二氧化锡纳米片的厚度为1nm~5nm。 6.根据权利要求1~4任意一项所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，所述二氧化锡纳米片的最大径向尺寸为1μm~20μm。 7.根据权利要求1所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，对所述混合前驱液经水浴加热处理后的反应体系进行离心处理，以分离所述反应体系中的所述复合前体材料。 8.根据权利要求1所述的二氧化锡气敏材料的制备方法，其特征在于，对所述复合前体材料进行煅烧处理之前，对所述复合前体材料进行冷冻处理以及冷冻干燥处理。 9.一种二氧化氮传感器，其特征在于，所述二氧化氮传感器包括气敏涂层，所述气敏涂层的材料包括二氧化锡气敏材料，所述二氧化锡气敏材料由如权利要求1~8任意一项所述的二氧化锡气敏材料的制备方法制备得到。 10.如权利要求9所述的二氧化氮传感器的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：采用如权利要求1~8任意一项所述的二氧化锡气敏材料的制备方法制备二氧化锡气敏材料；将所述二氧化锡气敏材料分散于分散剂中以形成分散体系；将所述分散体系涂覆于传感器基体上，并进行真空干燥处理，以形成所述气敏涂层。