一种晶圆ALD反应设备

本申请涉及晶圆技术领域，提供一种晶圆ALD反应设备，包括等离子发生器和反应腔；反应腔包括腔体和顶盖，顶盖上设置集成进气块，集成进气块内设置连通载气通道和出气通道；进气口末端设置缩口结构，缩口结构末端设置有第一筛板，第一筛板与晶圆放置台之间设置有第二筛板；第二筛板上设置有多圈喷淋孔，沿第二筛板的中心至边缘的方向上，多圈喷淋孔分为内圈区域、中圈区域和外圈区域。应用本申请的技术方案，将外圈区域的喷淋孔的密度设置为大于中圈区域的喷淋孔的密度，且小于内圈区域的喷淋孔的密度，这样，使带有前驱体的载气能够均匀的透过第二筛板，保证晶圆各个位置的前驱体量相同，从而通过控制腔体的流场均匀性，提高ALD成膜均匀型。