一种全息正弦光栅的制备方法

本发明提供一种全息正弦光栅的制备方法，包括：在基板上旋涂设定厚度的光刻胶，得到设置光刻胶掩膜的基板；对所述基板上的光刻胶掩膜进行光束干涉曝光操作，使得光刻胶掩膜处于未完全曝光状态，在基板上得到性质发生改变的光刻胶掩膜；对所述基板上性质发生改变的光刻胶掩膜进行显影操作，在基板上形成具有正弦分布形态的光刻胶光栅掩模，得到具有光刻胶光栅掩膜的基板；对所述具有光刻胶光栅掩膜的基板进行刻蚀，得到全息正弦光栅。正弦光栅制备工艺简单，且制备得到的正弦光栅面型易于控制，面型指标能够快速满足设定需求。