一种辐射制冷用反蛋黄壳结构光散射体及其制备方法

本发明公开了一种辐射制冷用反蛋黄壳结构光散射体及其制备方法，涉及材料制备技术领域，所述方法包括：S1、加入硅源、相变石蜡乳液模板，升温至相变石蜡熔点以上形成油相；S2、另加入水、硅源水解抑制剂与乳化剂，形成水相；S3、在剧烈搅拌之下将S1油相加入S2水相中，高速均质乳化；S4、向S3的反应物中加入硅源生长催化剂并在机械搅拌下加热、反应；S5、将S4中的反应产物抽滤、洗涤，得到反蛋黄壳结构光散射体材料。本发明通过一步设计合成反蛋黄壳结构光散射体材料，合成方法简单，合成的光散射体材料的结构可调控性强，用于辐射制冷技术，可以制备得到具有超高阳光反射率及相变功能的辐射制冷材料。