一种掩模缺陷检测系统

本公开提供一种掩模缺陷检测系统，包括：极紫外光源、照明转换装置和真空腔体，所述真空腔体内设置有掩模成像系统，所述掩模成像系统由MEMS振镜、平面反射镜、椭球反射镜、极紫外光刻掩模、成像波带片以及第一图像采集装置；所述MEMS振镜能够构建出任意形状的照明模式。经所述照明转换装置调制后的极紫外光依次经过MEMS振镜、平面反射镜、椭球反射镜聚焦到所述极紫外光刻掩模上，被所述极紫外光刻掩模反射的极紫外光经过成像波带片聚焦，最终在第一图像采集装置上成像。相较于现有技术，本申请采用波带片成像，大大降低了系统的成本和装调难度，并通过MEMS振镜扫描可以实现任意形状的照明模式，能够满足极紫外光刻掩模研发中的照明需求。