一种光超吸收材料表面的制备方法

一种光超吸收材料表面的制备方法，属于微纳加工技术领域，为了解决现有技术存在制备方法复杂、形状怪异、耗时长且难以大面积制备的问题，该方法基于模板制造技术以及高温退火形成金属小球以及带有可模压材料的纳米压印转移同性化学腐蚀形成的超高深宽比的锥形结构，本发明方法中高温退火工艺和贵金属诱导刻蚀形成的锥形结构具有超高深宽比，可在可见光到红外波段实现抗反射、超吸收性能。本发明可以应用于红外成像、热发射器、电磁屏蔽、光电探测、光电信号检测等领域。本发明具有超吸收性能、消光性好、耐久性好、适应性好、高生产率等优势，能够实现超吸收材料表面的大规模生产，使超吸收表面广泛应用于各种光学器件中。