1.一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：包括：遮光罩；挡光环，设置在所述遮光罩内壁上；光超吸收材料表面结构，设置在所述遮光罩内壁，所述光超吸收材料表面结构为高深宽比的锥形蛾眼结构。半导体制冷片，设置在所述遮光罩外表面。
2.根据权利要求1所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述挡光环表面也设置有所述光超吸收材料表面结构。
3.根据权利要求1所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述遮光罩的内层材质填充为橡胶或树脂。
4.根据权利要求1所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述半导体制冷片包括制冷面和发热面，所述制冷面紧贴所述遮光罩外表面，所述发热面暴露于空气中。
5.根据权利要求1所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述锥形蛾眼结构的高度大于工作谱段最长波长的二分之一。
6.根据权利要求5所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述锥形蛾眼结构呈周期性的点阵形式布置，所述周期小于可见光的波长。
7.根据权利要求1所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述光超吸收材料表面结构为周期结构，其微结构周期小于或与入射波长相近。
8.根据权利要求1所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述光超吸收材料表面结构采用泰伯位移光刻技术形成周期点阵结构，利用贵金属各向异性诱导刻蚀形成深孔的阵列；利用同性化学腐蚀，在所述深孔的基础上形成锥孔阵列；可模压材料通过纳米压印技术制成高深宽比的所述锥形蛾眼结构。
9.根据权利要求8所述的一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：所述可模压材料为碳纳米球或金属小球与硅橡胶、树脂或其他黑色纳米压印材料混合而成。
