1.一种光模块，其特征在于，包括：衬底、位于所述衬底内的目标波导、设置在所述衬底上的介质层，以及埋设在所述介质层内的至少两个亚波长光栅结构，所述至少两个亚波长光栅结构沿远离所述衬底的方向间隔排布，且相对设置，每个所述亚波长光栅结构在所述衬底上的正投影与所述目标波导在所述衬底上的正投影具有重合区；每个所述亚波长光栅结构包括亚波长光栅，以及与所述亚波长光栅一端连接的传输波导，所述亚波长光栅用于接收到的光进行模斑转换，并将转换后的光传输至所述传输波导，所述传输波导在所述衬底上的正投影与所述目标波导在所述衬底上的正投影具有重合区；所述亚波长光栅包括相对设置的两层第一光栅，以及位于所述两层第一光栅之间的第二光栅，所述第一光栅和所述第二光栅均沿第一方向延伸；所述第一光栅包括沿所述第一方向间隔排布的多个第一硅块，所述第二光栅包括沿所述第一方向间隔排布的多个第二硅块。
2.根据权利要求1所述的光模块，其特征在于，沿所述第一方向，所述第一光栅的第一端凸出于所述第二光栅的第一端，且所述第二光栅的第二端凸出于所述第一光栅的第二端，所述第二光栅的第二端连接所述传输波导，所述第一光栅的第二端靠近所述传输波导。
3.根据权利要求2所述的光模块，其特征在于，所述第二光栅包括连接在沿所述第一方向凸出所述第一硅块的相邻所述第二硅块之间的第三硅块，且沿远离所述第一硅块的方向，所述第三硅块的尺寸逐渐增加。
4.根据权利要求3所述的光模块，其特征在于，所述第三硅块为梯形硅块，所述梯形硅块的上底靠近所述第一硅块，且多个所述梯形硅块同一侧的腰位于一条直线上。
5.根据权利要求3所述的光模块，其特征在于，所述第一硅块和所述第二硅块均为矩形硅块，多个所述第一硅块等间隔排布，多个所述第二硅块等间隔排布，且所述第一硅块之间的间隔与所述第二硅块之间的间隔相等。
6.根据权利要求3所述的光模块，其特征在于，沿所述第一方向，所述第一硅块和所述第二硅块交叉设置。
7.根据权利要求3所述的光模块，其特征在于，所述第一硅块的大小与所述第二硅块的大小相同，所述第三硅块与所述第二硅块的厚度相同，且所述第三硅块的长度小于或者等于所述第二硅块的长度。
8.根据权利要求1-7任一项所述的光模块，其特征在于，所述衬底为绝缘体上硅衬底，所述绝缘体上硅衬底包括依次层叠设置的硅衬底层、埋氧层和硅顶层，所述目标波导设置在所述硅顶层。
9.一种光模块的制备方法，其特征在于，包括：步骤a：提供衬底，所述衬底的顶层形成有目标波导；步骤b：在所述衬底上沉积绝缘材料，形成覆盖所述目标波导的第一介质层，并对所述第一介质层的顶面平坦化处理；步骤c：在所述第一介质层上形成初始亚波长光栅层；步骤d：刻蚀所述初始亚波长光栅层，以形成至少两个亚波长光栅结构；其中，所述至少两个亚波长光栅结构沿远离所述衬底的方向间隔排布，且相对设置，每个所述亚波长光栅结构在所述衬底上的正投影与所述目标波导在所述衬底上的正投影具有重合区；步骤e：在所述亚波长光栅结构上沉积绝缘材料，形成覆盖所述亚波长光栅结构的第二介质层，并对所述第二介质层的顶面平坦化处理，平坦化处理后的所述第二介质层形成新的所述第一介质层；重复所述步骤c至所述步骤e，直至所述亚波长光栅结构的数量达到预设值，所述预设值大于或者等于2，所有的所述第一介质层形成介质层。
