Y型栅的制备方法及其制备的Y型栅

1.一种Y型栅的制备方法，包括：对位于衬底上表面的第一电子束光刻胶进行深紫外光照射处理，得到第一光刻胶层，包括：利用所述深紫外光照射处理，将所述第一电子束光刻胶的分子量降解，得到所述第一光刻胶层，其中，所述第一光刻胶层中所述第一电子束光刻胶的分子量的降解程度从上往下逐渐降低；在所述第一光刻胶层表面旋涂第二电子束光刻胶，得到第二光刻胶层，其中，所述第二电子束光刻胶的灵敏度高于所述第一电子束光刻胶；对所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层进行第一次曝光显影操作，得到Y型栅的栅帽结构，包括：基于对所述第二光刻胶层设定的第一曝光尺寸，对所述第二光刻胶层进行曝光操作，得到所述第二光刻胶层的第一曝光区域；利用第一显影液，对所述第二光刻胶层的所述第一曝光区域进行显影操作，得到所述第二光刻胶层的所述显影结构；在得到所述显影结构之后，利用所述第一显影液，基于所述第一光刻胶层中所述第一电子束光刻胶的分子量的降解程度，对所述第一光刻胶层进行显影操作，得到所述栅帽结构，其中，所述栅帽结构为倒梯形结构；对经过所述第一次曝光显影操作后的第一光刻胶层进行第二次曝光显影操作，得到所述Y型栅的栅脚结构，包括：基于对所述第一光刻胶层设定的第二曝光尺寸，对经过所述第一次曝光显影操作后的第一光刻胶层进行曝光操作，得到所述第二光刻胶层的第二曝光区域；利用第二显影液，对所述第二曝光区域进行显影操作，得到所述栅脚结构；利用金属蒸发方法，将目标金属材料填充至所述栅帽结构和所述栅脚结构中，得到所述Y型栅。 2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述目标金属材料包括第一目标金属材料和第二目标金属材料，利用金属蒸发方法，将目标金属材料填充至所述栅帽结构和所述栅脚结构中，得到所述Y型栅，包括：利用金属蒸发方法，在位于所述栅脚结构中的衬底表面形成由所述第一目标金属材料构成的粘附层；利用所述金属蒸发方法，将所述第二目标金属材料填充至所述栅帽结构和所述栅脚结构中，得到目标结构，其中，所述目标结构中包括由所述第一目标金属材料和所述第二目标金属材料构成的所述Y型栅。 3.根据权利要求2所述的方法，还包括：将所述目标结构中的所述第一光刻胶层、所述第二光刻胶层和由所述金属蒸发方法得到的所述第二光刻胶层上的金属层剥离，得到所述Y型栅。 4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一目标金属材料的选择与所述衬底的材料有关。 5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一光刻胶层的厚度大于所述Y型栅的厚度，所述第一电子束光刻胶为PMMA光刻胶。 6.一种利用如权利要求1~5中任一项所述的方法制备得到的Y型栅。