1.一种石英预制件,其特征在于,所述石英预制件用于制备光纤,所述石英预制件包括芯层和围绕所述芯层的包层,所述芯层的相对折射率差大于所述包层的相对折射率差;所述芯层由内向外包括:抛物线渐变层和线性渐变层;所述包层包括凹陷层以及围绕所述凹陷层的外包层,所述凹陷层的相对折射率差不大于零,且所述凹陷层的相对折射率差小于所述外包层的相对折射率差;其中,所述抛物线渐变层的最大折射率处的相对折射率差在0.017~0.022之间;所述抛物线渐变层的最小折射率处的相对折射率差在0.01~0.016之间;所述线性渐变层的最小折射率处的相对折射率差在0.002~0.006之间;所述凹陷层的相对折射率差在-0.01~-0.003之间。
2.如权利要求1所述的石英预制件,其特征在于,所述外包层由内向外包括过渡层和最外层,所述过渡层的相对折射率差大于所述凹陷层的相对折射率差,且小于所述最外层的相对折射率差。
3.如权利要求2所述的石英预制件,其特征在于,所述最外层的相对折射率差在0.002~0.006之间。
4.一种光纤制备方法,其特征在于,包括:提供如权利要求1至3中任一项所述的石英预制件;对所述石英预制件进行拉丝处理,得到裸光纤;对所述裸光纤外表面进行涂覆处理,得到具有涂覆层的光纤。
5.如权利要求4所述的光纤制备方法,其特征在于,在所述对所述裸光纤外表面进行涂覆处理,得到具有涂覆层的光纤之后,还包括:将所述具有涂覆层的光纤放置于具有预设真空度和预设温度的真空环境下,进行真空热处理;在进行真空热处理预设时长后,从所述真空环境中取出所述具有涂覆层的光纤。
6.如权利要求4所述的光纤制备方法,其特征在于,在所述对所述石英预制件进行拉丝处理,得到裸光纤之后,还包括:对所述裸光纤进行退火处理;将经退火处理的裸光纤送入延缓保温区进行延缓保温处理。
7.如权利要求4所述的光纤制备方法,其特征在于,所述对所述裸光纤进行涂覆处理,得到具有涂覆层的光纤,包括:在所述裸光纤的外表面上进行涂覆处理,并进行固化,形成第一涂覆层;在所述第一涂覆层上进行涂覆处理,并进行固化,形成第二涂覆层,得到所述具有涂覆层的光纤。
8.如权利要求7所述的光纤制备方法,其特征在于,所述第一涂覆层的模量为0.3-1MPa,所述第二涂覆层的模量为600-900MPa,所述第一涂覆层与所述第二涂覆层的厚度比例为0.8-1.3。
9.如权利要求4所述的光纤制备方法,其特征在于,所述光纤制备方法应用于光纤制备装置,所述光纤制备装置在所述裸光纤的通过路径上套设有石英玻璃管。
10.一种光纤,其特征在于,所述光纤根据权利要求4至9中任一项所述的制备方法制备而成。