一种半导体清洗装置

本申请公开了一种半导体清洗装置，所述半导体清洗装置包括反应室、清洗室和气体调节阀。所述清洗室与所述反应室通过第一管道连通，所述清洗室用于收集所述反应室内的废气和废液。所述气体调节阀与所述清洗室连通，所述气体调节阀用于减少所述清洗室的进气量，进而调节所述清洗室内的气压值，以使所述清洗室内的气压值小于所述反应室内的气压值。所述清洗室内的气压值小于所述反应室内的气压值可以防止所述清洗室内的废气回流至所述反应室内，避免回流的废气吸附在所述反应室内的衬底上影响衬底的质量，同时也可以避免废气吸附在所述反应室的内壁上污染所述反应室的内壁，影响半导体清洗装置的有效使用率和半导体清洗装置的使用寿命。

朱长垒