一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法

1.一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：包括以下步骤：1）平整场地与垫层铺设：将施工现场超高处土方推去，并推至到现场低洼处，并进行整平；然后回填30cm厚的砂垫层，并推平；2）排水系统施工：先在排水板(1)的排水面上固定安装液氮喷射管(2)，液氮喷射管(2)上设有背向排水板(1)的喷射孔，然后再进行排水板(1)的插打，排水板(1)打设到设计的深度，再进行深层真空管(3)的插打，深层真空管(3)紧邻排水板(1)布置，最后进行集水管路的施工和真空泵(12)的安装，真空泵(12)分别连接深层真空管(3)和排水板(1)；3）冰冻系统施工：在砂垫层上铺设液氮输送管(5)，并将液氮喷射管(2)与液氮输送管(5)相连，再安装液氮泵(6)，并将液氮泵(6)与液氮输送管(5)连接，液氮泵(6)的抽液口连接液氮罐；然后启动液氮泵(6)，将液氮罐中的液氮通过液氮输送管(5)送入液氮喷射管(2)内，从喷射孔中喷射到涂抹层上，对涂抹层进行冰冻，计算一个喷射孔的平均喷射量达到5ml时即断开液氮泵(6)与液氮罐的连接；对涂抹层喷射液氮后，拆除液氮输送管(5)和液氮泵(6)，然后等待涂抹层上的冰层自然融化；4）微劈裂系统施工：在砂垫层布设送气管(10)，送气管(10)连接空压机(11)，在加固区域插打喷气管(4)，喷气管(4)连接送气管(10)，喷气管(4)的末端设有喷气孔；5）密封系统施工：先沿加固区域周边开挖深度和宽度符合设计要求的密封沟(7)，再在加固区域铺设密封膜(8)，密封膜(8)埋入密封沟(7)内；6）加载：启动真空泵(12)，进行抽真空，使得密封膜(8)下的真空度达到设计要求，连续三天实测平均沉降速率小于3mm/d后，开启空压机(11)进行微劈裂；当膜下真空度下降至60kPa时，关闭空压机(11)，停止微劈裂，直到膜下真空度恢复到微劈裂前的压力值；连续三天实测平均沉降速率再次小于3mm/d时，再次开启空压机(11)进行微劈裂，依次往复；当膜下真空度达到微劈裂前的压力值后，连续三天实测平均沉降速率仍小于3mm/d时，终止微劈裂；微劈裂实施过程中，真空泵(12)保持连续工作状态；7）卸载：当实测沉降曲线推算的固结度≥85%，连续5天实测平均沉降速率小于2mm/d，并且有效加载时间达到设计要求后，关闭真空泵(12)；8）高真空击密：拆除密封膜(8)，并开启真空泵(12)排水，然后进行点夯击密，击密施工过程中保持真空泵(12)运行。 2.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤2）中，打入地基的排水板(1)需要接长时，采用芯板搭接，搭接长度大于20cm，搭接处采用线缝或枪钉锚固滤膜和芯板。 3.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤4）中，喷气管(4)布设间距为排水板(1)布设间距的2倍～4倍，喷气管(4)的末端封闭，喷气管(4)的末端200mm范围内设置4～6个喷气孔，喷气孔的孔径为3mm，喷气孔外用150g/m²的土工布包裹。 4.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤5）中，密封沟(7)开挖的土料置于密封沟(7)的两侧，密封沟(7)内侧的土料沿密封沟(7)内边线构筑覆水围堰，围堰高度不小于50cm，顶宽不小于50cm，内外侧坡比不陡于1:0.5。 5.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤5）中，铺设密封膜(8)前，先在密封沟(7)内制作50cm的泥浆层，密封膜(8)依次埋入密封沟(7)的泥浆层内。 6.根据权利要求5所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤5）中，铺设密封膜(8)前，先在砂垫层上铺设一层编织布和两层250g/m²的短丝土工布，最后铺设三层密封膜(8)，铺设的密封膜(8)与土工布每边向外扩出至少3m，并将其埋在周围的密封沟(7)的泥浆层内。 7.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：进行步骤6）前，需要进行试抽真空，检查密封系统和设备运行状态，试抽时间不少于4天。 8.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤6）中，真空泵(12)启动后，膜下真空度达到设计要求，且连续三天稳定后，正式进入抽真空运行阶段，膜下真空度达到设计要求之日作为有效加载计时起点。 9.根据权利要求4所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤6）中，在启动真空泵(12)前，对密封沟(7)和密封膜(8)进行覆水，覆水深度为0.2～0.4m。 10.根据权利要求1所述的一种微劈裂多层面高真空分层预压击密施工方法，其特征在于：步骤8）中，第一遍点夯间距为4.0m×7.0m，正方形布置，击密能量为700～1000kN·m，击数1～2击；第二遍点夯间距为4.0m×7.0m，正方形布置，打在第一遍夯点之间，击密能量为700～1000kN·m，击数1～2击；满夯能量为500kN·m，击数1～2击，锤印相互搭接1/4锤径。