一种铌三锡薄膜的制备方法

1.一种铌三锡薄膜的制备方法，为：采用溅射方法在含锡青铜衬底表面沉积铌，在衬底中铜的催化作用下，铌与衬底中的锡反应，在衬底表面形成铌三锡薄膜；溅射开始前，含锡青铜衬底应在真空中加热到300℃除气，然后降温至250℃后开始溅射；溅射过程中电压为300V，电流为0.5～0.8A，沉积速率为 溅射过程中衬底温度维持在200℃；溅射气体选择Ar气，溅射气压为0.5～1Pa。 2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述含锡青铜为锡质量百分比含量为10～60％的青铜。 3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：溅射前溅射设备烘烤除气，设备本底真空度高于5×10 -4 Pa。 4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述溅射方法 为磁控溅射。 5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所得铌三锡薄膜厚度为1～5μm。 6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：溅射后，维持真空自然降温至室温，然后取出。