1.一种超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)Si为基底，其两侧表面所镀制薄膜的膜系公式为：面1:G/100.0M 140.2H 359.4L 268.6H 489.9L 229.2H 495.3L 207.5H 467.4L245.0H 508.5L 237.5H 442.9L 192.0H 592.8L 262.6H 699.7L 348.2H 617.3L 352.0H766.3L 275.6H 812.9L 351.4H 534.2L 445.8H 687.6L 180.9H 473.0L 755.9N 88.1L64.6H 20.0M/A；面2:G/100.0M 69.1H 260.8L 195.7H 284.1L 148.2H 349.4L 207.8H 344.4L157.9H 288.9L 163.9H 290.8L 183.1H 477.4L 126.6H 309.8L 124.3H 381.7L 31.3H338.6L 121.2H 254.5L 131.2H 219.8L 105.1H 209.0L 146.2H 132.3L 312.3H 180.1L73.9H 262.2L 95.9H 247.3L 118.6H 323.5L 755.9N 88.1L 64.6H 20.0M/A；计算每层膜的物理厚度值并按顺序列表格，厚度值的单位为nm；其中，G为Si基底，M为Si膜料，H为Ge膜料，L为ZnS膜料，N为YbF 3 膜料，A为折射率N A ＝1的空气介质，膜系参考波长λ c ＝800nm，将上述M、H、N膜料依次放入镀膜机真空室的电子枪蒸发源坩锅内备用,将L膜料放入旋转阻蒸蒸发源中；(2)在镀膜基底超声波清洗工艺中，用清洗液清洁被镀基底，吹干，放入真空室抽真空待镀；(3)加温烘烤基底，在真空环境下，在30℃～160℃范围内逐渐升温烘烤；(4)在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，根据前述膜系设计公式计算出的各层膜的光学厚度值和表格顺序，将Si、Ge和YbF 3 三种膜料依次放入旋转电子枪蒸发源坩锅中，将ZnS膜料放入旋转阻蒸蒸发源中，然后用光学真空镀膜机按所述步骤(1)的公式列表顺序和厚度值完成镀膜；(5)在离子源辅助蒸镀工艺中，用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底；让其产生的离子束轰击基底到镀膜完成；(6)在高低温退火工艺中，将镀完膜的球罩在真空室自然冷却到室温后进行退火处理。
2.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：所述的镀膜Si基底超声波清洗工艺，是将基底放入盛有乙醇做清洗液的超声波清洗机内，选用中档位清洗10分钟，再换用丙酮清洗液清洗10分钟，用高纯氮气吹干，放入洁净的真空室载盘架并关门抽真空待镀。
3.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：所述的光学膜层粘接打底工艺，是将与Si基底粘接的100M层膜料镀制在第一层。
4.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：所述的光学膜层应力匹配工艺，是将M、H、L、N四种膜料按照其检测到的应力性质，使压应力膜料和张应力膜料交替排布。
5.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：在加温烘烤基底时，当抽真空到10 －3 Pa数量级时，从30℃开始加烘烤，缓慢升温一直升到160℃保温60分钟，工件旋转20转/分钟。
6.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：所述的离子源辅助蒸镀工艺，是在镀膜前将离子源参数调到：屏极电压500V，束流70mA，充纯度四个9的高纯氩气，将真空度控制在1.0×10 －2 Pa，用产生的离子束轰击球罩基底20分钟。
7.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：高低温退火工艺，是将镀完膜的Si基底自然冷却到室温后，再从真空室转移到干燥箱进行退火处理：从40℃开始升温，每升温10℃再恒温10分钟，一直升到130℃，恒温8～10小时后降温，每降温10℃恒温10分钟，降到常温30℃，取出检测待用。
8.如权利要求1所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法，其特征在于：所述的各层膜的物理厚度值如下表所示:面1: 膜层序号 第1层M 第2层H 第3层L 第4层H 第5层L 第6层H 膜层物理厚度/nm 100.0 140.2 389.4 268.6 489.9 229.2 膜层序号 第7层L 第8层H 第9层L 第10层H 第11层L 第12层H 膜层物理厚度/nm 495.3 207.5 467.4 245.0 508.5 237.5 膜层序号 第13层L 第14层H 第15层L 第16层H 第17层L 第18层H 膜层物理厚度/nm 442.9 192.0 592.8 262.6 699.7 348.2 膜层序号 第19层L 第20层H 第21层L 第22层H 第23层L 第24层H 膜层物理厚度/nm 617.3 352.0 766.3 275.6 812.9 351.4 膜层序号 第25层L 第26层H 第27层L 第28层H 第29层L 第30层N 膜层物理厚度/nm 534.2 445.8 687.6 180.9 473.0 755.9 膜层序号 第31层L 第32层H 第33层M 膜层光学厚度/nm 88.1 64.6 20.0 面2:
9.如权利要求1-8中任一项所述超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法在光学薄膜镀制技术领域中的应用。
