1.一种污水处理流体控制设备，其特征在于，包括：旋流盘、第一加药管、第二加药管、控制球阀、汇流锥管、搅拌杆、搅拌叶、漏斗、斜流通道、单向阀球、排流通道、封堵块、入流管、让位管头；其中所述控制球阀包括阀体、球体、阀杆、密封阀座、阀颈，所述球体包括小流量通道、大流量通道、第一区、第二区、第三区、第四区、第五区、第六区、第七区、第八区、所述大流量通道包括第一口、第二口，所述小流量通道包括第三口、第四口；其中所述第一加药管和第二加药管的一部分平行设置，所述第一加药管和第二加药管中都设有所述控制球阀，所述旋流盘中包括螺旋通道；所述第一加药管与所述螺旋通道的外圈在第一位置连通，在螺旋通道的所述外圈第一位置下游位置的外侧设有所述汇流锥管，所述汇流锥管与所述第二加药管连通；所述旋流盘的中央下方设有所述漏斗，所述漏斗上方设置所述搅拌杆，所述搅拌杆下端设有所述搅拌叶；所述漏斗下方连接所述斜流通道，所述斜流通道下方连接所述入流管，所述入流管将液体排入下游，所述入流管的直径大于所述斜流通道的直径，所述单向阀球的直径大于所述斜流通道的直径，所述封堵块位于所述入流管中，所述封堵块中设有所述排流通道，所述入流管上方设有让位管头，让位管头一端封闭，所述让位管头包括倾斜段与水平段，所述倾斜段与所述斜流通道连通，所述水平段底部支撑面的长度小于所述单向阀球的直径；所述控制球阀的阀体上设有所述阀颈，所述阀杆驱动所述球体转动，通过球体转动，球体表面等分为八个分区围绕球体中心转动，转动到关闭位置时，第一区、第二区面向上游构成封闭区阻断水流；当第二区、第三区面向上游时，所述第六区、第七区面向下游，其中所述第一口位于所述第三区，所述第二口位于所述第六区；当第四区、第五区面向上游时，第八区、第一区面向下游，所述第三口位于所述第四区，所述第四口位于所述第八区；其中所述小流量通道贯穿所述球体，所述大流量通道贯穿所述球体且位于所述小流量通道的下方；所述小流量通道为弧形通道。
2.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述搅拌叶数量为四。
3.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述第二加药管包括相互垂直的两段。
4.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述阀颈与阀体为一体结构。
5.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述球体的水平中心线穿过所述大流量通道的管壁。
6.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述密封阀座外侧设有补偿弹簧。
7.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述球体下侧设有下阀杆辅助驱动。
8.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述球体的直径大于阀体管道的直径。
9.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：球体表面的八个分区被密封阀座限定范围。
10.根据权利要求1所述的一种污水处理流体控制设备，其特征在于：所述旋流盘对应漏斗的位置上方开口以接纳所述搅拌叶。
