等离子沉积设备

1.一种等离子沉积设备，包括POD喷灯组和POD机台，其特征在于：所述POD机台水平撑托玻璃棒并调节其围绕玻璃棒轴转动，所述POD喷灯组的出口朝向玻璃棒的表面设置且能够平移实现往复喷涂；所述POD喷灯组包括并排设置的主喷灯和若干去应力喷灯，所述主喷灯用以将反应物沉积至玻璃棒的表层，所述去应力喷灯用以通入去应力气流来去除玻璃应力。 2.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述POD喷灯组包括两个所述去应力喷灯，两个所述去应力喷灯位于所述主喷灯的两侧。 3.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述主喷灯和所述去应力喷灯的出口距玻璃棒的间距一致。 4.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述主喷灯或所述去应力喷灯的出口距离玻璃棒表面的距离不大于喷射火焰的高度。 5.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述主喷灯或所述去应力喷灯的出口距离玻璃棒表面的距离为喷射火焰高度的一半。 6.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述主喷灯和所述去应力喷灯的轴间距小于等于两者喷射火焰的宽度之和的一半。 7.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述主喷灯内设并排的多路管道，所述管道用以分别通入四氯化硅、氧气和氟化物反应形成沉积的掺氟二氧化硅粉末；所述去应力喷灯内设若干管路，用以通入氧气和氮气。 8.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述POD喷灯组的平移速度变量△V为-0.1～-0.3m/min。 9.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：沉积厚度变量△C为5～10mm。 10.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述POD喷灯组的初始平移速度1m/min，最低平移速度不低于0.1m/min。