一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法

1.一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法，其特征在于包括：将硫酸配置成水溶液，其浓度为0.1mol/L，作为主蚀刻剂，并在其中加入抗坏血酸，抗坏血酸的浓度为2 mol/L；将配置好的酸性水溶液充分混匀后通入蚀刻槽中，蚀刻槽采用三电极反应形式，其工作电极为电解生成的无孔金属铜箔，对电极为经过表面防腐抗氧化处理的金属钛板，参比电极为饱和甘汞电极；蚀刻槽中酸性水溶液温度为40℃，方波电位上限为1.5V，下限为-0.2V，频率为100Hz，反应600分钟后制得多孔铜箔。 2.一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法，其特征在于包括：将盐酸配置成水溶液，其浓度为0.5mol/L，作为主蚀刻剂，并在其中加入柠檬酸，柠檬酸的浓度为0.5 mol/L；将配置好的酸性水溶液充分混匀后通入蚀刻槽中，蚀刻槽采用三电极反应形式，其工作电极为电解生成的无孔金属铜箔，对电极可为经过表面防腐抗氧化处理的金属钛板，参比电极为饱和甘汞电极；蚀刻槽中酸性水溶液温度为80℃，方波电位上限为6.3V，下限为-5.5V，频率为1000Hz，反应10秒后制得多孔铜箔。 3.一种方波电化学蚀刻制备多孔铜箔的方法，其特征在于包括：将硫酸和盐酸配置成水溶液，其总浓度为0.12 mol/L，作为主蚀刻剂，并在其中加入抗坏血酸和柠檬酸，抗坏血酸的浓度为0.1 mol/L，柠檬酸的浓度为0.2 mol/L；将配置好的酸性水溶液充分混匀后通入蚀刻槽中，蚀刻槽采用三电极反应形式，其工作电极为电解生成的无孔金属铜箔，对电极可为经过表面防腐抗氧化处理的金属钛板，参比电极为饱和甘汞电极；蚀刻槽中酸性水溶液温度为10℃，方波电位上限为0.2 V，下限为-2.6V，频率为10Hz，反应30 min后制得多孔铜箔。