有效
一种氧化铈忆阻器薄膜的制备方法
摘要
本发明公开了一种氧化铈忆阻器薄膜的制备方法,具体按照以下步骤实施:步骤1,制备氧化铈溶胶;步骤2,采用浸渍‑提拉法,以氧化铈溶胶为原料在室温下使用提拉机在氧化铟(ITO)基板上进行氧化铈凝胶薄膜的提拉,氧化铈凝胶薄膜在室温下干燥后,于300℃‑700℃下进行热处理,冷却后得到氧化铈薄膜;步骤3,使用紫外线对步骤2得到的氧化铈薄膜进行辐照,得到氧化铈忆阻器薄膜。该氧化铈忆阻器薄膜的制备方法具有制备成本低、工艺简单、容易控制等优点。
本发明公开了一种氧化铈忆阻器薄膜的制备方法,具体按照以下步骤实施:步骤1,制备氧化铈溶胶;步骤2,采用浸渍‑提拉法,以氧化铈溶胶为原料在室温下使用提拉机在氧化铟(ITO)基板上进行氧化铈凝胶薄膜的提拉,氧化铈凝胶薄膜在室温下干燥后,于300℃‑700℃下进行热处理,冷却后得到氧化铈薄膜;步骤3,使用紫外线对步骤2得到的氧化铈薄膜进行辐照,得到氧化铈忆阻器薄膜。该氧化铈忆阻器薄膜的制备方法具有制备成本低、工艺简单、容易控制等优点。