阵列式X射线源和X射线成像设备

1.一种阵列式X射线源（100），包括壳体（101）和位于壳体内的多个X射线发生器（110），所述多个X射线发生器成阵列排布，各个X射线发生器彼此分离地设置并被配置成彼此独立地出射X射线，其中，所述多个X射线发生器中的每一个包括：阳极靶（111），该阳极靶在电子束的撞击下产生X射线；管状外壳（113），该管状外壳具有被封闭的第一端和相反的开口第二端，阳极靶设置在所述第二端处以与管状外壳一起限定真空空间（V），所述阳极靶至少部分地定位所述真空空间和所述管状外壳之外；和X射线引出窗（112），该X射线引出窗设置在阳极靶的相对于所述管状外壳凹陷的周向外侧面上，使得阳极靶产生的X射线的至少一部分从该X射线引出窗出射，并且X射线引出窗的定向与X射线发生器的轴向方向相交叉，其中，所述多个X射线发生器的X射线引出窗都朝向第一方向定向，其中，所述多个X射线发生器沿第二方向线性地排列在所述壳体内，并且其中，所述多个X射线发生器至少包括沿第三方向并排布置的第一排X射线发生器和第二排X射线发生器，第一排X射线发生器和第二排X射线发生器在所述第二方向上彼此偏移，第一排X射线发生器和第二排X射线发生器的阳极靶彼此面对。 2.根据权利要求1所述的阵列式X射线源，其中，所述多个X射线发生器中的每一个还包括：电子束产生装置（114），该电子束产生装置靠近所述第一端设置在管状外壳内并被配置成向着阳极靶发射电子束。 3.根据权利要求2所述的阵列式X射线源，其中，所述多个X射线发生器中的每一个还包括：控制栅网（117），该控制栅网邻近电子束产生装置设置在所述真空空间内，并被配置成控制电子束产生装置的电子束的发射和截止；和/或聚焦装置（118），该聚焦装置设置在所述真空空间内，用于收集并聚焦来自电子束产生装置的电子束，聚焦的电子束穿过所述真空空间撞击到阳极靶上。 4.根据权利要求2所述的阵列式X射线源，其中，阳极靶设置有与所述真空空间连通的开孔（119），至少一部分电子束经由该开孔撞击阳极靶，并且X射线引出窗封闭该开孔，使得阳极靶产生的X射线的至少一部分经由该开孔从X射线引出窗出射。 5.根据权利要求1-4中任一项所述的阵列式X射线源，其中，所述多个X射线发生器中的至少一个是单焦点X射线发生器。 6.根据权利要求1-4中任一项所述的阵列式X射线源，其中，所述多个X射线发生器中的至少一个是脉冲式X射线发生器。 7.根据权利要求1-4中任一项所述的阵列式X射线源，还包括位于所述壳体内的绝缘油，所述多个X射线发生器至少部分地浸渍在所述绝缘油中。 8.根据权利要求1-4中任一项所述的阵列式X射线源，其中，所述壳体由金属、陶瓷或者玻璃制成；和/或所述X射线引出窗由选自钛箔、铜箔、铝箔、铍箔、不锈钢箔组成的组中的一种金属箔制成，或者由陶瓷片或玻璃片制成。 9.一种X射线成像设备，包括根据权利要求1-8中任一项所述的阵列式X射线源。