有效

融合型存储器的写入、擦除方法

吕杭炳、罗庆、许晓欣、龚天成、刘明
中国科学院微电子研究所
吕杭炳机构 暂无
技术领域 暂无
罗庆机构 暂无
技术领域 暂无
许晓欣机构 暂无
技术领域 暂无
龚天成机构 暂无
技术领域 暂无
刘明机构 暂无
技术领域 暂无

摘要

本公开提供一种融合型存储器的写入和擦除方法。其中写入方法包括中,融合性存储器包括多个存储单元,各存储单元块体衬底;衬底上方的源极、漏极和源极漏极之间延伸的沟道区,以及沟道区上堆叠的铁电层和栅极;其中,所述写入方法包括:在所述至少一个的存储单元的栅极和块体之间施加第一电压,所述第一电压小于所述铁电层发生极化翻转的翻转电压;所述源极和漏极分别为接地或者为浮置状态。本公开中,可以控制正向的第一电压实现数据的写入,与现有的DRAM比较,在85℃有1000秒以上的保持时间,速度与DRAM相当,保持特性大幅优于现有技术的DRAM。

暂无引用专利