惯性约束聚变装置中基于光束动态干涉图样的快速光束匀滑方法

1.一种惯性约束聚变装置中基于光束动态干涉图样的快速光束匀滑方法，其特征在于在激光驱动的惯性约束聚变装置激光集束，即多个子光束的集合中，每一子光束均经过相同的连续相位板(3)、偏振控制控制板(4)和透镜(5)聚焦至远场焦面，通过将集束分为两两组合的子光束对，每一对子光束所经过的连续相位板(3)和偏振控制板(4)相同，但工作波长不同且在激光集束(1)和连续相位板(3)之间分别插入一对共轭相位板(2)，其中子光束之间的工作波长差在0.01nm至1nm之间，通过每一对子光束间在远场的动态干涉图样实现对激光光束远场焦斑的快速匀滑，从而在较短的积分时间内提高远场焦斑的均匀性。 2.根据权利要求1所述的快速光束匀滑方法，其特征在于激光集束中每一对子光束的工作波长不同且经过共轭相位板(2)。 3.根据权利要求1所述的快速光束匀滑方法，其特征在于共轭相位板的位相分布是倾斜面、柱面、球面或螺旋面，可实现激光束远场散斑在横向、径向、角向或其组合方向的扫动，从而快速改善焦斑的均匀性。 4.根据权利要求1所述的快速光束匀滑方法，其特征在于通过在远场终端组件插入共轭相位板和使子光束工作波长不同的方法实现对远场焦斑的匀滑，满足即插即用的要求，实现方式灵活可变。 5.根据权利要求1所述的快速光束匀滑方法，其特征在于焦斑均匀性达到稳定所需的匀滑时间取决于子光束间的波长差，子光束间的波长差越大则匀滑时间越短。 6.根据权利要求1所述的快速光束匀滑方法，其特征在于为保证子光束之间的相干性和焦斑的均匀性，使子光束之间的工作波长差在0.01nm至1nm之间，则所需的匀滑时间在40ps至0.4ps之间。