1.一种毫米波/太赫兹波成像设备，包括：准光学组件和毫米波/太赫兹波探测器阵列，所述准光学组件适用于将被检对象自发辐射或反射回来的毫米波/太赫兹波反射并汇聚至所述毫米波/太赫兹波探测器阵列，其中，所述准光学组件包括多棱锥体转镜和聚焦透镜，所述多棱锥体转镜的转轴与被检对象所在的物面平行，所述多棱锥体转镜的每个侧面分别设置有反射板，且多个所述反射板与所述多棱锥体转镜的转轴之间的角度是不同的，以使得当所述多棱锥体转镜绕所述转轴旋转以对位于视场不同水平位置的部分自发辐射或反射回来的毫米波/太赫兹波进行反射时，多个所述反射板分别对所述被检对象位于所述视场不同竖直位置的部分自发辐射或反射回来的毫米波/太赫兹波进行反射，所述多棱锥体转镜上的反射板的数量为m个，m个所述反射板与所述转轴之间的角度沿着所述多棱锥体转镜的旋转方向以 的增量递增或递减，其中，θ m 为整个视场竖直范围所对应的视场角度。
2.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，6≥m≥3。
3.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，当m为奇数时，m个所述反射板中沿旋转方向的第1个反射板与所述转轴之间的角度为α，第 个反射板与所述转轴之间的角度为 第 个反射板与所述转轴之间的角度为 其中α在30°至60°的范围内。
4.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，当m为偶数时，m个所述反射板中沿旋转方向的第1个反射板与所述转轴之间的角度为 第 个反射板与所述转轴之间的角度为 第 个反射板与所述转轴之间的角度为
5.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，还包括驱动装置，所述驱动装置适用于驱动所述多棱锥体转镜绕所述转轴进行旋转运动。
6.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述毫米波/太赫兹波探测器阵列中的多个毫米波/太赫兹波探测器呈线性分布或双列交错分布。
7.根据权利要求1-6中的任一项所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，还包括：数据处理装置，所述数据处理装置与所述毫米波/太赫兹波探测器阵列连接以接收来自所述毫米波/太赫兹波探测器阵列的对于被检对象的扫描数据并生成毫米波/太赫兹波图像；和显示装置，所述显示装置与所述数据处理装置相连接，用于接收和显示来自数据处理装置的毫米波/太赫兹波图像。
8.根据权利要求7所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，还包括校准源，所述校准源在所述准光学组件的物面上，所述数据处理装置接收来自所述毫米波/太赫兹波探测器阵列的对于所述校准源的校准数据，并基于所述校准数据更新所述被检对象的图像数据。
9.根据权利要求8所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述校准源的长度方向平行于所述反射板的所述转轴，所述校准源的长度大于等于所述毫米波/太赫兹波探测器阵列在平行于所述转轴方向上的视场大小。
10.根据权利要求8所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述校准源为吸波材料、黑体或半导体致冷器。
