1.一种毫米波/太赫兹波成像设备，包括壳体、数据处理装置以及位于所述壳体内的校准源、准光学组件和毫米波/太赫兹波探测器阵列，所述壳体上设置有供被检对象自发辐射或反射回来的毫米波/太赫兹波穿过的窗口；所述准光学组件适用于将来自所述被检对象的毫米波/太赫兹波反射并汇聚至所述毫米波/太赫兹波探测器阵列，并包括适用于接收并反射来自所述被检对象的毫米波/太赫兹波的反射板，所述反射板与所述壳体可转动地连接以对来自所述被检对象位于视场不同位置的部分的波束进行反射；所述校准源位于所述准光学组件的物面上，所述校准源发射的毫米波/太赫兹波经所述反射板反射到所述毫米波/太赫兹波探测器阵列；所述反射板能够360°转动，以使得所述毫米波/太赫兹波探测器阵列能够接收来自所述被检对象的毫米波/太赫兹波以及来自所述校准源的毫米波/太赫兹波；以及所述数据处理装置与所述毫米波/太赫兹波探测器阵列连接以接收来自所述毫米波/太赫兹波探测器阵列的关于所述被检对象的图像数据以及关于所述校准源的校准数据，并基于所述校准数据更新所述被检对象的毫米波/太赫兹波图像数据。
2.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述校准源的长度方向平行于所述反射板的转动轴线，所述校准源的长度大于等于所述毫米波/太赫兹波探测器阵列的在平行于所述转动轴线方向上的视场大小。
3.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述反射板的转动轴线水平设置，以使得所述反射板对来自所述被检对象位于视场不同竖直位置的部分的毫米波/太赫兹波进行反射。
4.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述反射板的转动轴线竖直设置，以使得所述反射板对来自所述被检对象位于视场不同水平位置的部分的毫米波/太赫兹波进行反射。
5.根据权利要求1所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述反射板的背面设置有转轴，所述转轴的两端与所述壳体可转动地连接。
6.根据权利要求5所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，还包括适用于驱动所述转轴转动的驱动装置。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，还包括实时检测所述反射板的角位移的角位移测量机构。
8.根据权利要求1-6中任一项所述的毫米波/太赫兹波成像设备，其中，所述校准源为吸波材料、黑体或半导体致冷器。
9.一种对根据权利要求1-8中任一项所述的毫米波/太赫兹波成像设备进行校正的方法，包括以下步骤：驱动反射板转动，当所述反射板转动到检测区域时，通过毫米波/太赫兹波探测器阵列接收对于被检对象的图像数据，当所述反射板转动到校准区域时，通过所述毫米波/太赫兹波探测器阵列接收对于校准源的校准数据；基于所接收的所述校准源的校准数据更新所接收的所述被检对象的图像数据。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，基于所接收的所述校准源的校准数据更新所接收的所述被检对象的图像数据包括以下步骤：计算所述毫米波/太赫兹波探测器阵列的所有通道在所述校准区域的多次测量输出电压的平均值V；每个通道的检测区域校准后的数据为每个通道的检测区域采集的数据V i 减去所述平均值V，然后再除以每个通道的增益定标系数a i 。
